99,99% faible densité du disque 4n de grande pureté de Ti en métal de cible titanique pure de pulvérisation
Tuyauterie de l'acier inoxydable DIN2462 pour la cible planaire de pulvérisation
Le nickel de Ni 200 allie l'alliage basé sur nickel pur d'alliage de nickel de cible de pulvérisation
Forme de plaque cible de pulvérisation de chrome de haute pureté pour machine de revêtement PVD
La cible titanique en métal de cible de pulvérisation de pvd de grande pureté a adapté aux besoins du client
Pvd ligne de revêtement sous vide continu pour pulvérisation au chrome
Haute température composée naturelle de cible de pulvérisation de silice fondue résistante
Cible de pulvérisation cathodique au lanthane à haute constante diélectrique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs sans fuite
Taille personnalisable Cible de chrome Cible de pulvérisation rotative / plane Cr
Objectifs de pulvérisation planar au molybdène
990,95% de tungstène pur pour pulvérisation de cibles métalliques
Le métal de W-Ti pulvérisant vise la billette planaire pour le dépôt physique de vapeur de semi-conducteur
Chrome de Pvd pulvérisant la cible de pulvérisation de Target/Cr/prix indicatif de Chrome
Cible ronde de pulvérisation de molybdène de produits de molybdène pour le disque de revêtement de molybdène de cible de molybdène de pulvérisation de vide
cible rectangulaire/ronde du molybdène 10.2g/Cm3 pur de plat de pulvérisation pour le revêtement
forme de plat de cible de pulvérisation de chrome de 3N5 127*458*10mm
Les systèmes du dépôt PLD de laser pulsé pulvérisent la cible pour des systèmes de pulvérisation de magnétron de C.C rf