Cible de pulvérisation d'or au 99,99% de pureté avec une conductivité extrêmement élevée
Objectifs de pulvérisation planar au molybdène
Le nickel de Ni 200 allie l'alliage basé sur nickel pur d'alliage de nickel de cible de pulvérisation
Tuyauterie de l'acier inoxydable DIN2462 pour la cible planaire de pulvérisation
990,95% de tungstène pur pour pulvérisation de cibles métalliques
Le système de pulvérisation Mangetron, machine de revêtement au pulvérisation PVD Au Gold avec certification CE
99,99% faible densité du disque 4n de grande pureté de Ti en métal de cible titanique pure de pulvérisation
Cible de pulvérisation cathodique au lanthane à haute constante diélectrique pour la fabrication de puces de mémoire à semi-conducteurs sans fuite
99,6% matériel de cible de pulvérisation de titane de rond de la pureté GR1 GR2
Haute température composée naturelle de cible de pulvérisation de silice fondue résistante
Disque cible de pulvérisation en titane Ti Ti-Al Zr Cr pour revêtement PVD
Cible OD127*ID458*10 de pulvérisation de Cr de magnétron de Feiteng
99,8% les cibles de la pulvérisation Ti70Al30 nettoient à l'aspirateur des techniques de fonte
Pressing isostatique chaud de tungstène d'alliage de tungstène de tantale de cible carrée de pulvérisation
Cible ronde de pulvérisation de molybdène de produits de molybdène pour le disque de revêtement de molybdène de cible de molybdène de pulvérisation de vide
cible rectangulaire/ronde du molybdène 10.2g/Cm3 pur de plat de pulvérisation pour le revêtement
Les systèmes du dépôt PLD de laser pulsé pulvérisent la cible pour des systèmes de pulvérisation de magnétron de C.C rf