Coffrage à simple face résistant de mur d'Assemblée facile pour la station de métro souterraine
Contour
Le coffrage à simple face de mur est conçu pour la structure de mur que le coffrage peut seulement être érigé dans un côté. De la pression concrète sera transférée à la base par l'intermédiaire de la parenthèse du coffrage à simple face de mur. La taille de versement est ajustable, la hauteur maximum de bâti peut atteindre au coffrage 8.0m.The est très utilisée dans le versement concret du sous-sol, du souterrain, de l'usine de traitement des eaux usées, du ponceau, du mur de soutènement etc.
Éléments
• Le système de support incluent
— support de base 4.5m
— support de base 5.5m
— support intensifié
• Système de grande taille de panneau de Forpro
Grâce au grand contreplaqué de taille de dimension, là n'est aucun joint vertical de contreplaqué et seulement un joint horizontal de contreplaqué pour chaque unité à mur unique de coffrage.
• Ancrage du système
l'ancre snakelike de haute résistance est appliquée pour garantir le haut loadability et la petite élongation de la tige d'ancre.
Spécification technique
• La taille de bâti peut atteindre à 4.5m avec le support de base 4.5m
• La taille de bâti peut atteindre à 5.5m avec le support de base 5.5m
• La taille de bâti peut atteindre à 8.0m avec la combinaison de l'encadrement de soutien de differenc
• La pression concrète maximum autorisée est 50KN/m2, calcul spécial doit être exécutée si une plus grande pression concrète est exigée.
• La largeur de plate-forme de fonctionnement est 750mm et la charge vivante autorisée est 1.5KN/m2.
Application
Le système de grande taille de panneau de Forpro est largement appliqué dans le divers domaine de projets.
1.Containment et usine de centrale nucléaire projettent :
2.Dam, élévateur de navires, centrale et batardeau d'hydroélectricité projettent :
3.Pylon, pilier et blocs d'ancrage de pont projettent :
axe de 4.Core, de colonne et d'ascenseur du gratte-ciel :
5.LNG et réservoir chimique etc.
Emballage et transport
Notre usine
