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Résumé du produit
Le chuck/tray en céramique au carbure de silicium est un dispositif de haute performance utilisé dans les domaines des semi-conducteurs, des LED, du photovoltaïque et d'autres domaines de fabrication de précision, principalement utilisé pour fixer et transporter des wafers.Substrats de saphirSon matériau de base est le carbure de silicium (SiC), qui est fabriqué par usinage de précision, a d'excellentes propriétés physiques et chimiques, et est utilisé pour la fabrication d'autres matériaux.et peut répondre aux besoins de traitement de haute précision et de haute stabilité.
Paramètre du produit
(Propriété matérielle) | Unité | Je suis désolé. | |
(contenu en SiC) | Pourcentage en wt | > 99 | |
La taille moyenne des grains | micron | 4 à 10 | |
(Densité) | Poids total de l'équipement | > 3.14 | |
(Apparente porosité) | Vo à 1% | Le taux de dépôt5 | |
C'est la dureté de Vickers. | HV est 0.5 | GPA | 28 |
*() Force flexurale * (trois points) |
20 °C | MPa | 450 |
La force de compression | 20oC | MPa | 3900 |
Il y a un autre élément. | 20 °C | GPA | 420 |
(Toughness de la fracture) | MPa/m'% | 3.5 | |
C'est le conducteur thermique. | 20°oC | Le montant de l'aide est calculé à partir du montant de l'aide. | 160 |
Il y a une certaine résistance. | 20°oC | Ohm. centimètre | 106 à 108 |
C'est le coefficient d'expansion thermique |
Je ne peux pas vous dire pourquoi.80oC) | K-1 fois 10-6 | 4.3 |
Température de fonctionnement maximale |
ooC | 1700 |
Caractéristique du produit
1.Ultra-haute dureté et résistance à l'usure: la dureté du carbure de silicium est proche du diamant, une excellente résistance à l'usure, peut résister à un traitement à haute résistance à long terme et prolonger considérablement la durée de vie..
2Excellent performance de gestion thermique: high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient to ensure rapid heat dissipation in high temperature environments and maintain dimensional stability to avoid deformation caused by thermal stress.
3Excellente stabilité chimique: forte résistance à la corrosion, capable de résister aux acides, aux alcalis et à une variété de solvants chimiques, adaptée à un environnement de processus difficile.
4Après l'usinage de précision, la planéité de la surface est jusqu'au niveau du micron, assurant une haute précision et une faible pollution pendant le traitement.
Application du produit
Dans la fabrication de semi-conducteurs, le chuck en céramique au carbure de silicium peut être utilisé pour la découpe, le polissage, la lithographie et d'autres processus clés des wafers pour assurer un traitement de haute précision.As a bearing platform for sapphire substrate processing in LED production Pour le traitement du substrat de saphir dans la production de LEDIl supporte la coupe, le broyage et la croissance épitaxielle.
En outre, les chucks en céramique au carbure de silicium sont utilisés comme plateaux dans les équipements à haute température tels que le CVD et le PVD.utilisant des procédés à haute température pour résister à des environnements extrêmes et maintenir la stabilitéDans l'industrie photovoltaïque, il est utilisé pour la découpe de wafers de silicium et la fabrication de cellules solaires à film mince pour améliorer l'efficacité et le rendement du traitement.
Affichage du produit
Questions et réponses sur les produits
1Q: Qu'est-ce que le chuck en céramique au carbure de silicium?
A: Les chucks en céramique au carbure de silicium sont des appareils de haute performance pour la fabrication de semi-conducteurs, de LED et de photovoltaïques, principalement utilisés pour contenir et transporter des wafers, des substrats de saphir et d'autres matériaux.d'une dureté élevéeIl a une conductivité thermique élevée et une excellente stabilité chimique.
2Q: Quels sont les principaux avantages du chuck en céramique au carbure de silicium?
A: Les principaux avantages des chucks en céramique au carbure de silicium comprennent une résistance élevée à l'usure, d'excellentes performances de gestion thermique, une grande planéité et une résistance à la corrosion.qui peut répondre aux besoins d'usinage de haute précision et de processus à haute température.
Il est également utilisé pour la fabrication d'autres produits de haute précision, tels que des produits de haute précision, des produits de haute précision, des produits de haute précision, des produits de haute précision, des produits de haute précision et des produits de haute précision.