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​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

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​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

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Numéro de modèle :Cloches à quartz
Lieu d'origine :CHINE
Quantité de commande minimale :5
Conditions de paiement :T / t
Délai de livraison :2-4 semaines
Détails d'emballage :Emballage dans une salle de nettoyage à 100 niveaux
Coefficient de dilatation thermique :~5,5 × 10⁻⁷/°C
Pureté :≥99.999%
Résistance à la température :À long terme ≥1000°C, à court terme jusqu'à 1200°C
Structure :Forme de cloche (Dôme) ou cylindrique
Transmittance :Transmission élevée des longueurs d'onde ultraviolettes profondes aux longueurs d'onde infra
Vide résistant :Vide poussé (par exemple, 10⁻⁶ ~ 10⁻⁹ Torr)
Résistance à la corrosion plasmatique :Résiste aux gaz de procédé courants comme CF₄, O₂
Applications :Générateurs de plasma à semi-conducteurs
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Introduction principale des cloches en quartz​

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​ ​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​


Introduction principale des cloches en quartz de ZMSH

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

Les cloches en quartz ZMSH sont fabriquées à partir de matériaux en quartz de haute pureté, spécialement conçus pour répondre aux exigences rigoureuses de la fabrication moderne de semi-conducteurs et des environnements de procédés sous vide. Tirant parti d'une stabilité thermique et d'une inertie chimique exceptionnelles, ce produit démontre une aptitude remarquable dans des procédés critiques tels que l'oxydation des plaquettes, le recuit des semi-conducteurs et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

Conçues pour une intégration transparente, les cloches en quartz ZMSH sont entièrement compatibles avec divers systèmes et chambres à vide de type cloche, garantissant des performances élevées et une fiabilité opérationnelle. La structure en quartz de haute pureté offre une durabilité remarquable et des performances stables à long terme, qu'elles soient utilisées dans des configurations de cloches à vide en verre ou dans des scénarios de procédés à haute température.

S'appuyant sur l'expertise de ZMSH dans la fabrication de composants en quartz pour semi-conducteurs, nos cloches en quartz résistent non seulement aux conditions de haute température, mais maintiennent également une pureté extrême des matériaux pendant les procédés critiques. Ces cloches sont largement applicables dans les laboratoires de recherche et les équipements industriels, contribuant à une cohérence accrue des procédés et à une amélioration de l'efficacité globale des systèmes sous vide.


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Spécifications techniques des cloches en quartz

Vous trouverez ci-dessous un aperçu des principaux paramètres des cloches en quartz dans les générateurs de plasma pour semi-conducteurs, mettant en évidence les spécifications clés :

Catégorie de paramètres Paramètres spécifiques Remarques/Explication
​Propriétés des matériaux​ Pureté : ≥99,999 % (grade 5N)
Résistance à la température : ≥1000 °C à long terme, jusqu'à 1200 °C à court terme
Coefficient de dilatation thermique : ~5,5 × 10⁻⁷/°C
Une grande pureté est essentielle pour réduire la contamination ; un faible coefficient de dilatation garantit la stabilité thermique
​Dimensions géométriques​ Diamètre : Jusqu'à des centaines de millimètres (compatible avec différents outils)
Structure : Forme de cloche (dôme) ou cylindrique
Les dimensions doivent correspondre à la chambre de réaction et à la taille du substrat
​Performances optiques​ Transmission : Transmission élevée des longueurs d'onde de l'ultraviolet profond à l'infrarouge Facilite la surveillance optique et la détection des points finaux du procédé
​Compatibilité des procédés​ Vide supportable : Vide poussé (par exemple, 10⁻⁶ ~ 10⁻⁹ Torr)
Résistance à la corrosion par le plasma : Résiste aux gaz de procédé courants comme le CF₄, l'O₂
Garantit un fonctionnement stable à long terme dans des environnements plasma difficiles


Principe de fonctionnement​ des cloches en quartz

Le rôle de la cloche en quartz dans un générateur de plasma pour semi-conducteurs peut être compris comme « créant et protégeant l'espace idéal pour les réactions plasma »​​.

  • ​​Établir un environnement scellé :​​ La cloche en quartz, combinée à des composants tels qu'une plaque de base métallique via des joints (par exemple, des joints toriques), forme une chambre de réaction ​​scellée. Avant le début du procédé, le système de vide évacue l'intérieur de la cloche jusqu'à un vide poussé (par exemple, de l'ordre de 10⁻⁶ à 10⁻⁹ Torr), éliminant complètement les impuretés comme l'humidité et l'oxygène de l'air, fournissant une « étape » pure pour la réaction plasma.

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

  • ​​Injection et excitation :​​ Des gaz de procédé de haute pureté (par exemple, CF₄ pour la gravure, SiH₄ pour le dépôt ou le gaz auxiliaire Ar) sont contrôlés avec précision et injectés dans la cloche. Par la suite, des sources d'énergie telles que les micro-ondes ou les radiofréquences excitent ces gaz, les ionisant pour former un ​​plasma​​, qui contient des ions, des électrons et des radicaux très actifs.
  • ​​Maintien de la réaction :​​ Pendant la réaction, la ​​stabilité chimique élevée et le faible dégazage​​ de la cloche en quartz sont cruciaux. Elle résiste efficacement à la corrosion et à l'érosion des parois de la chambre par le plasma, empêchant la cloche elle-même de devenir une source de contamination, assurant ainsi la cohérence du procédé et la pureté des produits des plaquettes.

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​


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Cloches en quartz de haute pureté : Aperçu des caractéristiques principales​​

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

1. Conception et structure​​

  • Les cloches en quartz de conception cylindrique ou en forme de cloche conique avec un fond plat et un dessus ouvert facilitent l'accès aux échantillons et assurent l'étanchéité de la chambre pour maintenir le vide ou les environnements de gaz inertes, répondant aux exigences d'intégrité structurelle dans des conditions de fonctionnement difficiles.

2. ​​Norme de haute pureté​​

  • Les cloches en quartz sont fabriquées à partir de quartz fondu de haute pureté pour éviter la contamination des échantillons pendant les procédés, répondant en particulier aux exigences de pureté strictes de l'industrie des semi-conducteurs et offrant un environnement sans contamination pour les applications sensibles.​

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

3. Stabilité thermique​​

  • Les cloches en quartz d'une résistance exceptionnelle aux températures élevées maintiennent la stabilité de la forme pendant les procédés à haute température, ce qui les rend adaptées aux scénarios de traitement thermique nécessitant un contrôle précis de la température, tels que l'oxydation thermique et le recuit.

4. ​​Inertie chimique​​

  • Les cloches en quartz d'une tolérance élevée à la plupart des produits chimiques garantissent la stabilité dans les environnements de réaction corrosifs, empêchant les réactions avec les matériaux traités et garantissant la précision et la reproductibilité des résultats du procédé.

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​

5. ​​Transparence optique​​

  • ​​Les cloches en quartz d'une transmission sur les spectres de la lumière ultraviolette à visible prennent en charge la surveillance visuelle en temps réel des procédés à l'intérieur de la chambre, fournissant des informations intuitives pour l'optimisation des procédés et l'observation de la recherche.

6. Compatibilité avec le vide​​

  • Les conceptions d'étanchéité des cloches en quartz, telles que les brides en verre rodé, permettent la compatibilité avec les systèmes de vide pour maintenir efficacement les environnements de vide, répondant aux exigences du procédé pour un contrôle précis de l'atmosphère, comme dans le dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​ ​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​


Principaux domaines d'application​​ des cloches en quartz

Sur la base des propriétés ci-dessus, les cloches en quartz sont principalement utilisées dans les principaux procédés de fabrication de semi-conducteurs suivants :

  • ​​Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) :​​ Dans les procédés PECVD, la cloche en quartz fournit un environnement de réaction stable pour le dépôt de films tels que le nitrure de silicium et le dioxyde de silicium. Sa grande pureté et sa résistance à la température garantissent la qualité des films déposés.
  • Gravure à sec :​​ Dans les procédés de gravure, la cloche en quartz peut résister aux plasmas à base de fluor et de chlore hautement corrosifs, protégeant les autres composants de la chambre de réaction et maintenant l'uniformité et la reproductibilité du procédé de gravure.
  • Dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) :​​ Dans les procédés avancés comme le MPCVD pour la production de films de diamant de grande taille et de haute qualité (utilisés dans la dissipation thermique des semi-conducteurs, etc.), la cloche en quartz est un composant clé en raison de sa capacité à créer un environnement plasma pur.


À propos de ZMSH

ZMSH est spécialisée dans la fourniture de solutions de matériaux haute performance pour les secteurs des semi-conducteurs, de l'optoélectronique et de la fabrication haut de gamme. Avec des capacités matures dans la personnalisation des composants clés pour les équipements de traitement au plasma, tels que les cloches en quartz, ZMSH utilise des matériaux en quartz de haute pureté adaptés aux exigences des clients en matière d'étanchéité, de résistance à la température et de résistance à la corrosion par le plasma. L'entreprise contrôle avec précision les dimensions, les interfaces de bride et la transmission optique pour garantir des performances stables dans la gravure, le CVD et d'autres procédés.

De plus, ZMSH fournit une gamme de produits personnalisés, notamment des fenêtres et des substrats optiques en saphir, des substrats de dispositifs de puissance en carbure de silicium (SiC), des plaquettes de silicium, des composants personnalisés en quartz et des plaquettes SOI. Ces offres couvrent des services complets, de la préparation des matériaux au traitement de précision (par exemple, la coupe, le meulage, le polissage), répondant aux exigences strictes en matière de dureté, de conductivité thermique et d'isolation dans des secteurs tels que l'électronique grand public, l'aérospatiale et les dispositifs médicaux.

En intégrant la R&D sur les matériaux à un système de fabrication flexible, ZMSH permet le prototypage rapide et la livraison en série de produits non standard, soutenant l'innovation technologique et les mises à niveau des produits pour les clients.

​​Cloches en quartz personnalisées avec options de revêtement pour générateurs de plasma pour semi-conducteurs​​


Cloches en quartzFAQ

1.Q : Quelle est la fonction principale d'une cloche en quartz dans les procédés plasma pour semi-conducteurs ?​​

R : La cloche en quartz sert de ​​chambre scellée de haute pureté​​, offrant un environnement stable pour les réactions plasma. Sa ​​haute transmission de la lumière et sa résistance à la corrosion​​ garantissent l'uniformité et les faibles niveaux de contamination dans les procédés tels que la gravure et le dépôt.

2. Q : Comment déterminer si une cloche en quartz doit être remplacée ?​​

R : Une cloche en quartz doit être remplacée lorsque le nettoyage répété ou la corrosion par le plasma entraîne une ​​épaisseur inférieure à un seuil de sécurité​​ (par exemple, l'épaisseur aux points de mesure clés s'écarte de la plage de référence), ou lorsque des dépôts de surface excessifs commencent à affecter la stabilité du plasma.


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