Machines polies matérielles d'essai de laboratoire 50×60×40cm pratiques

Volume 50×60×40cm poli par matériel de l'appareil de contrôle HZ-1728 de machines d'essai de laboratoire

Description de l'équipement:

HZ-1728 Testeur de matériau poli poli, usé mince ou rectifié à l'épaisseur requise de l'échantillon.

Testeur de surface polie
Le modèle d'utilité appartient à un dispositif de détection, en particulier à un détecteur de surface polie qui peut détecter efficacement de minuscules défauts et une contamination sur une surface de plaquette ou une sous-surface de plaquette.
Avec le développement rapide de la technologie microélectronique, le nombre de transistors intégrés sur des tranches semi-conductrices augmente.Des scientifiques de Fairchild Semiconductor Corporation aux États-Unis ont proposé il y a des décennies que le nombre de transistors pouvant être fabriqués sur une certaine zone de plaquettes doublerait tous les dix-huit mois.Au cours des deux dernières décennies, les progrès de l'intégration ont suivi cette loi, et les scientifiques prédisent que cette loi existera encore dans les dix à vingt prochaines années.Par conséquent, la zone occupée par chaque transistor sur la plaquette devient de plus en plus petite.Il est prévu que dans un avenir proche, chaque transistor sera composé d'une douzaine d'atomes de cristal ou même moins.Cette tendance de développement a mis en avant des exigences plus strictes pour le développement et la production de plaquettes semi-conductrices.De petits défauts ou une contamination affecteront sérieusement les performances de l'appareil et entraîneront même une défaillance de l'appareil.Pour le développement et la production de circuits intégrés à grande et très grande échelle, la première étape consiste à rejeter les plaquettes présentant de petits défauts ou une contamination, sinon le rendement sera sérieusement affecté.Par conséquent, la détection de micro-défauts et de contamination sur la surface ou la sous-surface de la tranche polie mécanochimique devient progressivement l'une des technologies clés liées à la qualité de la tranche polie de matériaux semi-conducteurs et au rendement de fabrication du dispositif.Malheureusement, il n'existe actuellement aucun dispositif capable de détecter efficacement les défauts microscopiques et la contamination sur la surface ou la sous-surface de la tranche.
Le but de ce modèle d'utilité est de fournir un détecteur de surface de polissage, qui peut afficher avec précision la topographie de la surface et du sous-sol de la surface de polissage sur un support approprié sous la forme d'une image visuelle, et en même temps la surface et sous-surface inhérente, en raison du traitement et des défauts environnementaux apparaissent dans l'image.Les matériaux qu'il peut détecter comprennent généralement des métaux, des matériaux semi-conducteurs et d'autres substances solides aux propriétés similaires.
Tel que conçu ci-dessus, le schéma technique du présent modèle d'utilité est : un détecteur de surface polie, qui se caractérise en ce qu'il est composé d'un châssis, d'un dispositif de contrôle, d'un dispositif source lumineuse placé dans le châssis, d'un dispositif de convoyage d'échantillon, d'un un écran d'imagerie et un appareil photo ;dans lequel le dispositif de transport d'échantillons est composé de Le dispositif est connecté au circuit de commande de transport d'échantillons ;le dispositif d'imagerie est relié au circuit de commande d'imagerie ;le circuit de commande comprend un circuit de commande d'amplification, de distance focale, d'ouverture et un circuit de commande d'étage de translation ;les extrémités d'entrée des circuits de commande ci-dessus sont toutes connectées à la sortie du dispositif de commande dans le dispositif de commande Connexion d'extrémité : l'extrémité de sortie de l'appareil photo est connectée à l'extrémité d'entrée du moniteur.

Paramètres techniques: