Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd

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Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

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Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd
Ville:baoji
Province / État:Shaanxi
Pays / Région:china
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Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

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Numéro de modèle :personnalisation
Lieu d'origine :La Chine
Quantité minimale de commande :1pc
Conditions de paiement :T/T
Capacité à fournir :5tons/month
Délai de livraison :5 à 7 jours
Détails de l'emballage :boîtier en contreplaqué
Nom :Cible de traitement de Tantalum
Grade :Le montant de la subvention est calculé en fonction des coûts de production.
La pureté :≥99.95%
Densité :160,68 g/cm3
Surface :Surface usinée
La norme :Pour l'aéronef
Statut de la livraison :à l'étain
Forme :Cible plate Cible tournante Personnalisation en forme spéciale
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Informations sur le produit:

 

Nom Cible de tantale pour revêtement PVD
Grade Le montant de la subvention est calculé en fonction des coûts de production.
La pureté ≥ 99,95%
Densité 160,68 g/cm3
Surface Surfaces usinées, sans fissures, rayures, taches, écailles et autres défauts
La norme Pour l'utilisation dans les machines à coudre
Forme Cible plate, cible tournante, personnalisation de forme spéciale

 

Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optiqueCible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

 

Contenu chimique de la cible de tantale pour revêtement PVD:

 

Grade Principaux éléments   Contenu d'impuretés inférieur à %
  Je vous en prie. Nb Le Fe Je sais. Je ne sais pas W Je vous en prie. - Je vous en prie. Nb Je vous en prie. C H est N
Ta1 Restez! Je ne sais pas. 0.005 0.005 0.002 0.01 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
Ta2 Restez! Je ne sais pas. 0.03 0.02 0.005 0.04 0.03 0.005 0.1 0.03 0.01 0.0015 0.01
TaNb3 Restez! < 3.5 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 Je ne sais pas. 0.03 0.01 0.0015 0.01
TaNb20 Restez! 17.023. Je suis désolé.0 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 Je ne sais pas. 0.03 0.01 0.0015 0.01
Ta2,5 W Restez!   0.005 0.005 0.002 3 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
Ta10W Restez!   0.005 0.005 0.002 11 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01

 

Caractéristique de la cible au tantale PVD:

 

Points de fusion élevés,
basse pression de vapeur,
Une bonne performance de travail à froid,
une stabilité chimique élevée,
une résistance élevée à la corrosion des métaux liquides,
Le film d'oxyde de surface a une grande constante diélectrique

 

Applications:

 

La cible en tantale et la cible en cuivre sont soudés, puis une pulvérisation par semi-conducteur ou optique est effectuée,et les atomes de tantale sont déposés sur le substrat sous forme d'oxydes pour obtenir un revêtement de pulvérisationLes cibles de tantale sont principalement utilisées dans les revêtements de semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres industries.Le métal (Ta) est actuellement principalement utilisé pour revêtir et former une couche de barrière par dépôt de vapeur physique (PVD) en tant que matériau cible.

 

Nous pouvons traiter selon le dessin du client, et produire Ta barre, plaque, fil, feuille, crucible etc.

 


 

Veuillez nous envoyer une demande pour plus d'informations

 

Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

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