Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
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Cible de tungstène à haute pureté 99,97% pour le revêtement par pulvérisation
Introduction au projet
1. La cible de pulvérisation au tungstène adopte les techniques les mieux démontrées, notamment la fluorescence aux rayons X (XRF), la spectrométrie de masse par décharge lumineuse (GDMS) et le plasma couplé par induction (ICP);
2Le tungstène de l'achémétal est doté d'une pureté élevée allant jusqu'à 99,97%, d'une densité de 18,8 à 19 g/cm3, d'une structure d'organisation homogène et d'un grain fin;
3Notre cible de pulvérisation de tungstène a été approuvée par l'ASTM B 760-2007 et GB 3875-2006.
Paramètre
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OD (mm) |
Identifiant (mm) |
Longueur ((mm) |
Fabriqué sur mesure |
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140 à 300 |
120 à 280 |
100 à 3300 |
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Numéro de modèle |
W1 |
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Forme |
personnalisé |
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Composition chimique |
990,95% de W |
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Caractéristique
1. Haute densité
2. Haute résistance à l'usure
3. Haute conductivité thermique avec faible coefficient de dilatation thermique
Spécification
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Numéro atomique |
74 |
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Numéro CAS |
- Je ne sais pas. |
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Masse atomique |
183.84 [g/mol] |
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Point de fusion |
3420 °C |
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Point d'ébullition |
5555 °C |
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Densité à 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
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Structure cristalline |
Cube centré sur le corps |
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Coefficient de dilatation thermique linéaire à 20 °C |
4.410-6 [m/mK] |
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Conductivité thermique à 20 °C |
Le nombre total d'émissions de CO2 est le suivant: |
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Chaleur spécifique à 20 °C |
0.13 [J/gK] |
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Conductivité électrique à 20 °C |
18.2106[S/m] |
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Résistance électrique spécifique à 20 °C |
0.055 [(mm2) /m] |
Applications
électronique
dépôt de vapeur chimique (CVD)
affichage de dépôt physique de vapeur (PVD)