Groupe de ZEIT
Pursuing Excellence without Limits！
Add to Cart
substrat de Photomask de quartz du × 127mm de 127mm pour l'usage de FPD
Applications
Les champs du processus de photolithographie, tels que la fabrication de puce de circuit intégré, FPD (écran plat),
MEMS (électro systèmes mécaniques micro), etc.
Principe de fonctionnement
Le masque est un masque principal graphique utilisé généralement dans la photolithographie de la fabrication de micro-nano. La structure graphique
est formé sur un substrat transparent par un photomask opaque, et alors l'information graphique est transférée au
substrat de produit par un procédé d'exposition.
Caractéristiques
Substrat de Photomask pour l'usage de FPD
| Modèle/matériel | Taille | Capacité de traitement |
| 5 pouces/quartz | × 127mm de 127mm | Meulage, polissant, électrodéposition de Chrome, collant |
Écoulement de processus
Détection de matières premières de → ;
Meulage approximatif de → ;
Polissage approximatif de → ;
Nettoyage de masque de → ;
Inspection de représentation de matières premières de → ;
Le → a plaqué par le chrome ;
Essais de performances de masque de → ;
Revêtement de vernis photosensible de → ;
Emballage de → ;
Transport de →.
Nos avantages
Nous sommes fabricant.
Processus mûr.
Réponse dans un délai de 24 heures de travail.
Notre certification d'OIN
Parties de nos brevets
Parties de nos récompenses et qualifications de R&D