Consommables de plasma .11.848.401.081 chapeau de protection G521 pour des accessoires de plasma de Kjellberg HiFocus

Numéro de type:.11.848.401.081 G521
Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:5pcs
Conditions de paiement:T / T ou union occidentale
Capacité d'approvisionnement:10.000 PCs par mois
Délai de livraison:Marchandises rapides
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Consommables de plasma .11.848.401.081 chapeau de protection G521 pour des accessoires de plasma de Kjellberg HiFocus

 

La soudure de Changhaï ZhouBo et la technologie de coupure est une électrode de consommables professionnelle de plasma de fabricant, bec, bouclier, anneau de remous, chapeau intérieur, maintenant le chapeau, tube de l'eau, corps de torche et ainsi de suite. Nous avons l'expérience d'années de dix pour exporter beaucoup de pays, et nos produits est très concurrentiel dans le monde.
Notre société produit :
1. consommables pour HT4400, HPR400XD, HPR260XD, HPR130XD, HPR260, HPR130, HSD130, HD3070, HD4070, HT2000, MAX200, POWERMAX1650, POWERMAX1250, POWERMAX65, POWERMAX85, POWERMAX45, POWERMAX30 et ainsi de suite.
2. consommables de Kjellberg pour HiFocus80i, HiFocus100i, HiFocus130i, HiFocus160i, HiFocus280i, HiFocus360i, HiFocus440i et ainsi de suite.

3. Consommables d'Esab pour PT-25, PT-36, PT-37, PT-600, PT-15XL, PT-19XL, PT-31XL et ainsi de suite.
 

MachineHEC NON.Thum NON.Référence NON.Description

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hifocus 280i

Hifocus 360i

Hifocus 440i

(Acier au carbone)

K94211G901Y.11.848.201.142Tube de refroidissement
K94212G902Y.11.852.201.142Tube de refroidissement
K94241G931Y.11.848.401.142Tube de refroidissement
K0402G002Y.11.848.221.300O2 de cathode
K0105G015Y.11.848.231.350O2 de cathode
K0101G011Y.11.848.231.320O2 de cathode
K0106G016Y.11.848.231.360O2 de cathode
K0402G092Y.11.848.401.310O2 de cathode
K7441G101.11.848.221.145Guide de gaz
K1466G2006.11.848.221.406O2 25A de bec
K1467G2007.11.848.221.407O2 35A de bec
K54124G3004.11.848.201.1604Chapeau de bec
K641515G4015.11.848.201.1515Bouchon de réservoir de remous
K641220G4020.11.848.201.1520Bouchon de réservoir de remous
K44191G501.11.848.201.081Chapeau protecteur
K0403G003Y.11.848.221.310Gathode - O2
K7442G102.11.848.221.146Guide de gaz
K1466G2006Y.11.848.221.406O2 de bec
K1467G2007Y.11.848.221.407O2 de bec
K1468G2008Y.11.848.221.408O2 50A de bec
K14610G2010Y.11.848.221.410O2 80A de bec
K14612G2012Y.11.848.221.412O2 120A de bec
K14614G2014Y.11.848.221.414O2 160A de bec
K14616G2016Y.11.848.221.416O2 200A de bec
K14826G2326Y.11.848.221.426Bec
K14830G2330Y.11.848.221.430Bec
K14831G2331Y.11.848.221.431Bec
K11014G2514.11.848.311.614Bec
K11015G2515.11.848.311.615Bec
K11016G2516.11.848.311.616Bec
K11018G2518.11.848.311.618Bec
K11125G2725.11.848.411.625Bec
K11127G2727.11.848.411.627Bec
K11129G2729.11.848.411.629Bec
K541228G3028.11.848.201.1628Chapeau de bec
K641522G4022.11.848.201.1522Bouchon de réservoir de remous
K641525G4025.11.848.201.1525Bouchon de réservoir de remous
K641530G4030.11.848.201.1530Bouchon de réservoir de remous
K04242G032Y.11.848.421.310O2 de cathode
K04244G034Y.11.848.421.330O2 de cathode
K74251G121.11.848.421.145Guide de gaz
K14826G2326Y.11.848.421.426O2 280A de bec
K14830G2330Y.11.848.421.430O2 360A de bec
K14831G2331Y.11.848.421.431Bec - O2-400A
K541409G3209.11.848.401.1609Chapeau de bec
K541419G3219.11.848.401.1619Chapeau de bec
K541429G3229.11.848.401.1629Chapeau de bec
K641745G4345.11.848.401.1545Bouchon de réservoir de remous
K641750G4350.11.848.401.1550Bouchon de réservoir de remous
K641755G4355.11.848.401.1555Bouchon de réservoir de remous
K44201G521.11.848.401.081Chapeau protecteur
K94211G901Y.11.848.201.142Tube de l'eau
K94212G902Y.11.852.201.142Tube de l'eau
K94241G931Y.11.848.401.142Tube de l'eau


 
Support technique :

Mesures de cblage anti-parasitage pour des machines-outils

 

Le dispositif de commande numérique par ordinateur et l'unité servo du système de soudure l'arc de plasma d'OR est la pièce de noyau du système, l'alimentation d'énergie est la manière principale d'écrire l'interférence. L'interférence de l'alimentation d'énergie est principalement produite par la ligne d'alimentation d'énergie d'accouplement d'impédance, toutes sortes d'équipement électrique de haute puissance est la source principale d'interférence.

 

alimentation de l'énergie 3,1 dans la ligne avec le fil protégé

 

Système de soudure l'arc de plasma de la ligne électrique OR. Ligne de cathode de la ligne d'arc de torche de coupure et de plasma/arc accrochant dans l'appui de glissement, équivalente pour aller lignes parallèles dix d'et de mètres/arc contrôle de ligne, ligne de cathode de torche de la puissance de plasma, cathode de torche de la ligne courant de C.C 100 ampères. Il produit le champ électromagnétique et l'arc haute fréquence d'avance du signal haute fréquence par puissance de accouplement de la volonté du dispositif de commande numérique par ordinateur et de l'unité servo provoqués par la perturbation électromagnétique.

 

Avec le cuivre et l'aluminium pour protéger le cble l'armature de la couche peut effectivement supprimer l'interférence du blindage électromagnétique haute fréquence, fondant peut empêcher le changement du champ du fil de noyau d'induction électrostatique.

 

L'utilisation du filtre de 3,2 puissances

 

Le filtre de puissance est un composant indispensable dans l'anti-parasitage, haute fréquence et la section basse fréquence a la bonne représentation de suppression d'interférence. L'utilisation devrait prêter l'attention aux sujets :

 

A) le filtre devrait être installé sur la surface du métal conducteur, ou être tissé par la terre et la terre ;

 

B) le filtre d'emplacement devrait être aussi proche comme possible de la ligne électrique l'entrée ;

 

C) entrée et sortie de filtre la meilleure utilisation du fil protégé ou du twisted pair ;

 

D) pour éviter les lignes d'entrée et sortie d' couplage mutuel, l'interdiction absolue des lignes d'entrée et sortie empaquetées avec l'utilisation du fil protégé.

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Consommables de plasma .11.848.401.081 chapeau de protection G521 pour des accessoires de plasma de Kjellberg HiFocus

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