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équipement d'atomisation de poudre en métal Balling de poudre de plasma de la radiofréquence 1~3KG pour le Ti, W
Aperçu
La torche de plasma de radiofréquence possède la densité de haute énergie, force forte de chauffage, et son arc de plasma est énorme. En raison d'aucune électrodes disponibles, il ne peut pas produire de la contamination aux produits provoqués par évaporation d'électrode.
Le principe de la technologie Balling de poudre de plasma de radiofréquence se rapporte que le gaz inerte (comme l'argon) est ionisé sous l'effet de l'alimentation d'énergie haute fréquence et formé en tant que plasma hautes températures stable de gaz rare ; et la poudre crue irrégulière est pulvérisée par le gaz porteur (azote) dans le plasma par le dispositif de alimentation de poudre, et ces particules de poudre absorbent un grand nombre de chaleur dans le plasma hautes températures et leurs surfaces sont fondues rapidement ; alors ceux-ci poudre fondue sont envoyés dans le dispositif de réaction par le refroidissement extrêmement grande vitesse et et rapide sous l'environnement de gaz inerte. En conséquence, ils sont refroidis et solidifiés dans la poudre sphérique par la tension superficielle ; en outre, ils sont envoyés dans le matériel recueillant la pièce.
Caractéristiques
Technologie de structure de module de noyau
La poudre Balling de torche de plasma de radiofréquence produisant l'équipement est construite avec suivre sept composants et composants périphériques :
Torche de plasma de radiofréquence :
La technologie de base de l'ensemble de totalité d'équipement appartient la technologie des droites de propriété intellectuelle indépendantes. Le tuyau de contrainte en céramique et les becs divergents sont adoptés. L'équipement peut fonctionner sous l'environnement de l'atmosphère de gaz inerte, de réduction et d'oxydation.
Alimentation d'énergie haute fréquence de plasma :
Puissance 100kW, fréquence 3.0±0.5MHz.
Approvisionnement en gaz et système de alimentation de poudre :
Le dispositif de alimentation de poudre adopte un produit importé fait par Canadian TEKNA Company, et il envoie le matériel de poudre dans la torche de plasma. Les diamètres des particules de poudre sont 10-200µm ; le circuit d'alimentation de gaz applique le débitmètre précis de flotteur (route 4), fournissant le gaz fonctionnant (l'argon) pour la torche. Pièce de réaction, recueillant la pièce et l'appui : la pièce de réaction et la pièce de collecte utilisent la structure de refroidissement par l'eau de double-couche, et elles sont faites d'acier inoxydable, entièrement adoptant le modèle de fermeture sous-vide ; l'appui est peint la bombe par l'acier au carbone, les matériaux partiels sont l'alliage d'aluminium qui sont forts, durs, réguliers et sûrs.
Système de pompage :
Il est équipé de la pompe vide de eau-circulation + pompe mécanique + pompe de racines + vanne de régulation + tuyaux + les soufflets ondulés, et commuté pour maintenir la pression négative exigée pour le système commençant et fonctionnant. Le vide extrême est 8 x 10-2 Pa.c