Machine de revêtement NANOE fonctionnelle de la couche mince, machine de revêtements dure de PVD sur des outils

Machine de revêtement dure NANOE de la couche mince sur des outils/revêtements durs sur des pièces en métal

Équipement dur fonctionnel de revêtements de la machine de revêtement de la couche mince de PVD/PVD sur des outils

Les revêtements durs, constitués par des procédés physiques réactifs du dépôt en phase vapeur (PVD), basés sur la technologie de plasma, deviennent très utilisés dans les outillages.
Afin d'obtenir le plus dur, le revêtement tendu et usage-et anticorrosion, la température de substrat devrait être aussi haut comme possible, et le bombardement concourant par les particules de taille atomique énergiques (Ion-électrodéposition) pendant le dépôt réactif devrait être employé. Par exemple, en enduisant les exercices en acier trempé, le substrat est chauffé 450℃ ou ainsi avant que le dépôt soit commencé. Ceci qui préchauffe peut être fait par bombardement d'ion, qui pulvérisent également nettoient la surface, ou l'aide d'autres sources de chaleur dans la chambre de dépôt.
Au cours du processus du revêtement dur de PVD pour des outils, il ne change pas les dimensions physiques de la pièce de manière significative.
Le gaz de plasma utilisé pour le dépôt réactif est un mélange de l'argon, de l'azote et de l'ethyne. La composition des revêtements est a varié en variant le mélange de gaz.

Les sources de vaporisation les plus communes pour l'électrodéposition d'ion des revêtements durs sont non équilibré-magnétron - sources de pulvérisation, et sources de cathodique-arc-vaporisation. Le bombardement pendant le dépôt est généralement réalisé en s'appliquant une polarisation négative (- 200 -300 volts) au substrat et en accélérant les ions positifs la surface d'un plasma. Un rapport élevé des ions de bombardement aux atomes déposants est important pour densifying le matériel déposant. Dans la source de non équilibré-magnétron-pulvérisation, peu des atomes pulvérisés sont ionisés ; mais dans les sources cathodiques d'arc, un pourcentage élevé des atomes vaporisés sont ionisés. Puisque ces « ions de film » ont une masse plus élevée que font les ions de gaz, ils peuvent mieux pulvériser des surfaces et densify des films par « le matage atomique. »

Les revêtements industriels d'outil sont en général 1,5 4 microns d'épaisseur.

Référence générale : Guides d'éducation le traitement de métallisation sous vide, écrit par Donald M. Mattox, 2009 par la société du dispositif d'enduction de vide.

Applications :

Les revêtements durs deviennent très utilisés dans le revêtement décoratif et les outils industriels (HSS ou HSC
matériaux). Les revêtements sont davantage résistance porter et corrosion, pour accomplir les fonctions d'outils plus sûrement et pendant un temps de longue durée, 2 ou 3 fois plus longtemps que sans revêtement en général.
Outils de coupe : (Revêtements suggérés : AlTiN/TiAlN, TiCN et étain)

Scier, fraisant, insertion de commande numérique par ordinateur (tournant dur utilisant), forage, fraisage et coupeur etc. de vitesse.
Poinçon et formation (revêtements suggérés : CrN, TiCN et étain)
Estampillage en métal
Moulage (moulage par injection en plastique) -- (Revêtements suggérés : TiCN et étain)
Le moulage mécanique sous pression
Composants de précision
D'autres, comme : machines-outils, machine, applications texitile etc. de réenduisage, de raffûtage.

Description dure de machine de revêtement de la couche mince

1. Les systèmes d'équipement de RT-HAC se compose : puits dépression, pompes vide, sources d'arc, axe et cric, gabarits structure, chauffant et se refroidissant, l'eau et gaz (distribution), contrôle et système électriques etc. d'opération.
2. application : revêtements fonctionnels industriels pour les outils durs.
films 3.Coating : Étain, tic, CrN, AlTiN etc.
avantages 4.Coating : dureté élevée et usage-résistance et corrosion, accrues temps de la vie d'outil et qualité améliorée d'objet. « 

Avantages techniques
1. fond fort de l'appui de R&D, foyer sur des détails de la fabrication.
2. grandes sources cathodiques orientées d'arc pour réduire des gouttelettes pendant le depostion.
3. le système de contrôle de chauffage précis, la déviation est ±5℃, quand la surface de substrat est jusqu' 550℃.
4. a avancé le traitement préparatoire haute densité de plasma.

Échantillons de revêtement durs de la couche mince

Revêtement de TiN Thin Film Gold sur le moulage par injection

Revêtement de la couche mince de CrN sur l'industrie aérospatiale

Revêtement de la couche mince de TiAlN sur des outils

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