Haute machine de revêtement noire de la résistance à l'abrasion DLC, revêtements noirs profonds - royal-source

Haute machine de revêtement noire de la résistance à l'abrasion DLC, revêtements noirs profonds

Numéro de type:RTRS
Point d'origine:Fabriqué en Chine
Quantité d'ordre minimum:1 jeu
Conditions de paiement:L / C, T / T
Capacité d'approvisionnement:6 ensembles par mois
Délai de livraison:12 semaines
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Adresse: ZONE INDUSTRIELLE DE LA ROUTE DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINE 201613
dernière connexion fois fournisseur: dans 1 heures
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Détails du produit

La série de RTAS est une machine émettrice multiple intégrée de dépôt aux couleurs générales de graphite, de noir de jais, bleues, en cuivre et en bronze sur des pièces en métal, objets d'acier inoxydable. En particulier utilisé pour les pièces de luxe de classe extrémité élevé.
 

 

Application standard

Bijoux, bracelets de montre et corps, sports d'acier inoxydable, écrivant des instruments

Électronique grand public : Téléphone portable, ordinateur portable, caméra, bourdons

  • Électronique domestique,
  • L'électronique de Dans-voiture ;
  • vaisselle plate d'acier inoxydable
  • Instrument médical et implants

  

 

 

Les machines de RTAS équipées des sources circulaires de dépôt de pulvérisation d'arc et de cylindre. Combinaisons multiples de C.C pulvérisant, pulvérisation de MF, évaporation d'arc et source d'ions etc. Tous sont disponibles dans une machine simple, pour une flexibilité élevée dans les configurations de satisfaire de diverses applications. Particulièrement pour les revêtements esthétiques de petits composants : couleurs de noir de jais, d'en cuivre, de laiton et de chrome.
 

Que le MF pulvérise-t-il ?

Comparé au C.C et au rf pulvérisant, la fréquence médiane pulvérisant est devenue une technique principale de pulvérisation de la couche mince pour la production en série du revêtement, en particulier pour le dépôt de film des revêtements diélectriques et non-conducteurs de film sur des surfaces telles que les revêtements optiques, les panneaux solaires, les couches multiples, le film etc. de matériau composite.

Il remplace la pulvérisation de rf due lui a fonctionné avec le kilohertz plutôt que le mégahertz pour une vitesse de dépôt beaucoup plus rapide et peut également éviter l'empoisonnement de cible pendant le dépôt de la couche mince de composé comme le C.C.

Les cibles de pulvérisation de MF ont toujours existé avec des deux-ensembles. Deux cathodes sont utilisées avec un courant C.A. ont commuté dans les deux sens entre elles qui nettoie la surface de cible avec chaque inversion pour ramener la charge pour s'accumuler sur des diélectriques que des avances courber qui peut répandre des gouttelettes dans le plasma et empêcher la croissance uniforme de la couche mince est qui ce que nous avons appelé Target Poisoning.
 

 
 

Specificaitons technique

 

 

Non.Nom
1Système de pompage de vide : Pompe moléculaire de Turbo + pompe mécanique des racines Pump+ + tenant la pompe
2Système de mesure de vide : Pirani + parquant des mesures
3Système de chauffage : appareils de chauffage pour des substrats réchauffant pour améliorer l'adhérence
4L'eau/système comprimé d'admission d'air : conception modulaire et fabaricated
5Cathodes de pulvérisation de cylindre : 2/4/6/8 paire de cibles de jumeaux pour l'option
6Soupape vanne de vide (comme option)
7Armoire électrique (norme de la CE)
8Puits dépression (SS304/316L comme en a été faite la demande)
9Source cathodique d'arc (cathodes conventionnelles d'arc)
10Port de vue (2 distribués sur la porte pour l'inspection l'intérieur de la chambre de dépôt)
11Traitant le système de distribution de gaz (contrôleur d'écoulement de mètre pour 4 canaux)
12Système d'entraînement de support (modèle moteur planétaire)
13Carrousel

 

 

DescriptionRTAS1250RTAS1612
Chambre de dépôt (millimètres)φ1250 * H1250φ1600 * H1250

Entraînement planétaire

Secteur de revêtement efficace (millimètres)

8 : φ270*H850

10 : φ230*H850

10 : φ300*H850

16 : φ200*H850

Cathode circulaire d'arc (ensembles)712
Cathodes de pulvérisation de cylindre (paires)3 /44 / 6

Puissance polarisée pulsée

(Kilowatt)

3648
Puissance de pulvérisation de C.C/MF (kilowatts)364*36
Puissance d'arc (kilowatts)7*512*5
Pompes vide

Pompes moléculaires de 2* Turbo

1*SV300B

1*WAU1001

1*TRP60

Pompes moléculaires de 3* Turbo

2*SV300B

1*WAU2001

1*TRP90

Puissance maximale (kilowatts)200245
Puissance moyen (kilowatts)<75><100>
L'espace d'opération (L*W*H) millimètre4300*3700*28005000*4000*2800

Configurations flexibles : la machine est placée selon des conditions de revêtement de processus et de clients
 

Insite

 

 

 

 

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