Système de dépôt de pulvérisation de tantale de carbone de ventres de DLC-C

Le pulvérisation par magnétron est largement utilisé pour déposer des métaux réfractaires comme le tantale, le titane, le tungstène,niobium, qui nécessiterait des températures de dépôt très élevées, et les métaux précieux: or et argent et qui est également utilisé pour le dépôt de métaux point de fusion inférieur comme le cuivre, l'aluminium, le nickel, le chrome, etc.

Le tantale est le plus utilisé dans l'électroniquesecteur industrielcomme revêtement protecteur en raison de sa bonne résistance l'érosion.

Applications du film mince de tantale pulvérisé:
1- l'industrie de la microélectronique, les films pouvant être pulvérisés de manière réactive et contrôler ainsi la résistivité et le coefficient de température de la résistance;

2. Des instruments médicaux tels que des implants corporels pour sa propriété de haute biocompatibilité;
3. les revêtements sur les pièces résistantes la corrosion, telles que les thermocouples, les corps de vannes et les fixations;
4. Le tantale pulvérisé peut également être utilisé comme une barrière de résistance la corrosion efficace si le revêtement est continu, défectueux et adhère au substrat..

Les avantages techniques

1. Un chariot normalisé est appliqué, ce qui permet de charger/décharger facilement et en toute sécurité les supports de substrat et les pièces de travail l'intérieur/ l'extérieur de la chambre de dépôt.
2. Le système est verrouillé de sécurité pour empêcher un mauvais fonctionnement ou des pratiques dangereuses
3. Les chauffeurs de substrat sont fournis qui montés dans le centre de la chambre, thermocouple contrôlé PID pour une haute précision, pour améliorer l'adhérence du film de condensation
4. Configurations de pompes vide puissantes avec pompe moléculaire suspension magnétique via une vanne de porte connectée la chambre; soutenu par la pompe racines de Leybold et la pompe palettes rotatives deux étages, pompe mécanique.
5. Une source de plasma ionisé haute énergie est appliquée avec ce système pour garantir l'uniformité et la densité.
   
   
   

Système de dépôt par pulvérisation de tantale normalisé de Royal Technology: RTSP1000

l'intérieur:

Construit en 2018

Localisation: Chine

Veuillez nous contacter pour plus d'applications et de spécifications.

Shanghai Royal Technology Inc. a été créée en 2006, un fournisseur mondial d'équipements de vide de haute qualité avec des sites clés dans le monde entier.La technologie de recherche et développement est soutenue par des ingénieurs spécialisés aux États-Unis et en Chine.Les installations de fabrication de machines de haute technologie sont situées Shanghai et notre réseau mondial de centres de service assure une réponse rapide au service la clientèle dans les principaux endroits.

Shanghai Royal Technology a une forte volonté de conception innovante et de sélection de composants de haute qualité,combiné un processus d'assemblage très minutieux et une équipe de techniciens et d'inventeurs talentueux., qui nous permettent d'offrir des solutions de revêtement clés en main avec des équipements sous vide de haut niveau, répondant et dépassant souvent les normes occidentales.Nous sommes déterminés servir le marché mondial dans diverses industries telles que:

L'électronique grand public, l'automobile, les énergies renouvelables, l'architecture, les nanomatériaux et les matériaux biomédicaux.

Modèle RTAS, l'équipement de série intégré arc et pulvérisation peut produire des films noirs et bronzes très réfléchissants spécialement pour les revêtements décoratifs de haute qualité.

RTSP1200-FCEV, Il s'agit d'un système de pulvérisation avec procédé PECVD pour déposer un film mince sur les modules d'alimentation pile combustible hydrogène.Les véhicules pile combustible sont la dernière technologie pour la prochaine génération de voitures écologiquesLe principal avantage et le progrès technologique par rapport aux batteries couramment utilisées comme les piles sèches nécessitent un processus de recharge récurrent.mais les modules d'alimentation pile hydrogène ne nécessitent que la réaction hydrogène et oxygène pour générer de l'énergie pour la conduite.

RTSP1200-DPC,Ce système de revêtement est utilisé exclusivement pour le processus de substrats céramiques DPC (Direct Plating Copper).par exemple dans les LED haute luminosité pour augmenter la longévité en raison de ses performances de rayonnement thermique élevées, les équipements de semi-conducteurs, les communications sans fil au micro-ondes, l'électronique militaire, divers substrats de capteurs, l'aérospatiale, le transport ferroviaire, l'électricité et bien plus encore.

RT-CsI950, une usine de revêtement par évaporation est appliquée au dépôt de film CsI pour les appareils d'imagerie rayons X. Il s'agit d'une technique avancée permettant d'évaporer le CsI sur l'écran pour créer des images de haute qualité.Les performances de haute résolution permettent cette application d'être extrêmement efficace et perturbatrice dans l'instrument médical, l'industrie de l'énergie nucléaire, les contrôles et inspections de sécurité, les matières de physique des hautes énergies et plus encore.

Shanghai Royal Technology a également conçu et développé avec succès le système de métallisation sous vide en aluminium de grande taille modèle cube et cylindre qui est utilisé pour le revêtement des panneaux de logo automobile.

Vivre localement, penser globalement est notre vision. Nous vivons nos activités quotidiennes selon le concept d'Integrité et Solidarité.Nous nous efforçons toujours d'innover pour créer des situations gagnant-gagnant dans notre écosystème de partenaires mondiaux.En tant que pionniers dans l'industrie des équipements de revêtement sous vide, nous ne nous sommes jamais appuyés sur les réalisations antérieures.Mais nous avons continuellement essayé d'explorer le monde en constante évolution de l'industrie du revêtement sous vide pour toujours créer des économies optimales, des avantages sociaux et environnementaux pour nos clients.

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