Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de MF de graphite, équipement d'électrodéposition de la décoration PVD de noir de jais

Numéro de type:RTAS1250
Point d'origine:Fabriqué en Chine
Quantité d'ordre minimum:1 jeu
Conditions de paiement:L/C, A/D, D/P, T/T
Capacité d'approvisionnement:6 ensembles par mois
Délai de livraison:12 semaines
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Adresse: ZONE INDUSTRIELLE DE LA ROUTE DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINE 201613
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La machine de métallisation sous vide du graphite PVD/la couleur décoration PVD de noir de jais finit

 

 

 

Structures de machine de métallisation sous vide du graphite PVD :

Sources de dépôt
Sources circulaires orientées d'arc pour l'évaporation de la cible solide en métal ;
2 paires de cathodes de pulvérisation unblanced par MF pour le dépôt de couche de la couche mince de graphite ;
Alimentation d'énergie polarisée pour que le bomboardment d'ion forme le secteur de plasma pour le traitement préparatoire ;
Unité linéaire de source d'ions d'anode (pour facultatif) traitement de PACVD et de PECVD ;
Cryopump (Polycold) pour la condensation moléculaire de l'eau (pour facultatif)
D'autres modules
1. puits dépression
2. système de pompage de vide de Rouhging (paquet de pompe de support)
3. système de pompage de vide poussé (par magnétisme pompe moléculaire de suspension)
4. système de commande électrique et d'opération
5. système d'installation d'Auxiliarry (sous-système)
6. système de dépôt : Cathode de pulvérisation de MF, alimentation d'énergie de MF, source d'ions polarisée d'alimentation d'énergie pour facultatif

 

 

 

 

Représentation de machine de métallisation sous vide du graphite PVD
1. pression finale de vide : améliorez que les torr 5.0×10-6.
2. pression fonctionnante de vide : Torr 1.0×10-4.
3. temps de Pumpingdown : de 1 atmosphère 1.0×10-4 Torr≤ 3 minutes (la température ambiante, sèche, nettoient et vident la chambre)
4. métallisation du matériel (pulvérisant + évaporation d'arc) : Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr, étain, tic, TiAlN, CrN, centre de détection et de contrôle, etc.
5. modèle fonctionnant : Plein automatiquement /Semi-Auto/ manuellement

Que le MF pulvérise-t-il ?

Comparé au C.C et au rf pulvérisant, la fréquence médiane pulvérisant est devenue une technique principale de pulvérisation de la couche mince pour la production en série du revêtement, en particulier pour le dépôt de film des revêtements diélectriques et non-conducteurs de film sur des surfaces telles que les revêtements optiques, les panneaux solaires, les couches multiples, le film etc. de matériau composite.
Elle remplace la pulvérisation de rf due elle a fonctionné avec le kilohertz plutôt que le mégahertz pour une vitesse de dépôt beaucoup plus rapide et peut également éviter l'empoisonnement de cible pendant le dépôt composé de la couche mince comme le C.C.

Les cibles de pulvérisation de MF ont toujours existé avec des deux-ensembles. Deux cathodes sont utilisées avec un courant C.A. commuté dans les deux sens entre elles ce qui nettoie la surface de cible avec chaque inversion pour réduire l'accumulation de charge sur des diélectriques que cela mène courber qui peut répandre des gouttelettes dans le plasma et empêcher la croissance uniforme de la couche mince--- est ce qui ce que nous avons appelé Target Poisoning.

Les tailles de système de pulvérisation de MF de décoration de graphite en métal :
Taille intérieure de chambre : Diamètre 1200 millimètre | 1600mm
Taille intérieure de chambre : 1250mm | 1300mm

Les tailles adaptées aux besoins du client de machine sont également disponibles basées sur une demande spéculaire des produits 3D.

Caractéristiques du système RTAC1250-SPMF de pulvérisation de MF

MODÈLERTAC1250-SPMF
TECHNOLOGIEMagnétron de MF pulvérisant + électrodéposition d'ion
MATÉRIELAcier inoxydable (S304)
TAILLE DE CHAMBREΦ1250*H1250mm
TYPE DE CHAMBRECylindre, verticale, 1 porte
SYSTÈME DE PULVÉRISATIONExclusivement conception pour le dépôt noir mince de film
MATÉRIEL DE DÉPÔTAluminium, argent, cuivre, Chrome, acier inoxydable,
Nickel
SOURCE DE DÉPÔT2 ensembles que la pulvérisation cylindrique de MF vise + 8 ont orienté des sources cathodiques d'arc + la source d'ions pour facultatif
GAZManières de cpc 4, AR, N2, O2, C2H2
CONTRÔLEPLC (contrôleur programmable de logique) +
SYSTÈME DE POMPESV300B - 1 ensemble (Leybold)
WAU1001 - 1 place (Leybold)
D60T- 1 ensemble (Leybold)
Pompes moléculaires de Turbo : 2* F-400/3500
TRAITEMENT PRÉPARATOIREAlimentation d'énergie polarisée : Kilowatt 1*36
SYSTÈME DE SÛRETÉContacts de sécurité nombreux pour protéger des opérateurs
REFROIDISSEMENTEau froide
PUISSANCE ÉLECTRIQUE480V/3 phases/60HZ (Etats-Unis conformes)
460V/3 phases/50HZ (Asie conforme)
380V/3 phases/50HZ (EU-CE conforme)
EMPREINTE DE PASL3000*W3000*H2000mm
POIDS TOTAL7,0 T
EMPREINTE DE PAS(L*W*H) 5000*4000 *4000 MILLIMÈTRE
DURÉE DE CYCLE30~40 minutes (selon le matériel de substrat,
la géométrie de substrat et conditions environnementales)
MAXIMUM DE PUISSANCE.155 KILOWATTS
PUISSANCE MOYENNE
CONSOMMATION (APPROXIMATIVEMENT)
75 KILOWATTS


 
 
La machine de métallisation sous vide du graphite PVD est une machine émettrice multiple intégrée de dépôt au graphite général, au noir de jais, aux décorations bleues de la couleur etc. sur des pièces en métal, objets d'acier inoxydable. En particulier utilisé pour les produits de luxe de classe extrémité élevé aimez : l'électronique : téléphone intelligent, caméra, ordinateur portable, golf, cuillère, fourchettes, couteau, poignée de porte, robinets ; bijoux des bagues, du collier, des boucles d'oreille, des bracelets, des montres-bracelet etc.
 


 

 
Veuillez nous contacter avec plus de caractéristiques, technologie royale est honoré pour te fournir les solutions totales de revêtement.

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