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4H N Type Semi Type SiC Wafer 4 pouces DSP Production Recherche personnalisation de qualité factice
La gaufre de carbure de silicium est principalement utilisée dans la production de diodes Schottky, de transistors effet de champ semi-conducteurs d'oxyde de métal, de transistors effet de champ de jonction, de transistors jonction bipolaire,thyristorsLa gaufre en carbure de silicium présente une résistivité élevée/faible, ce qui garantit les performances dont vous avez besoin.quelles que soient les exigences de votre demandeQue vous travailliez avec de l'électronique de haute puissance ou des capteurs de faible puissance, notre wafer est la hauteur de la tche.Donc si vous cherchez une gaufre en carbure de silicium de haute qualité qui offre des performances et une fiabilité exceptionnellesNous vous garantissons que vous ne serez pas déçu par sa qualité ou ses performances.
Grade | Zéro MPDGrade | Grade de production | Grade de factice | |
Diamètre | 100.0 mm +/- 0,5 mm | |||
Épaisseur | 4H-N | 350 mm +/- 20 mm | 350 mm +/- 25 mm | |
4H-SI | 500 mm +/- 20 mm | 500 mm +/- 25 mm | ||
Orientation de la gaufre | Sur l'axe: <0001> +/- 0,5 degré pour le 4H-SI | |||
En dehors de l'axe: 4,0 degrés vers <11-20> +/-0,5 degrés pour 4H-N | ||||
Résistance électrique | 4H-N | 0.015 0.025 | 0.015 0.028 | |
(Ohm-cm) | 4H-SI | > 1E9 | > 1E5 | |
L'orientation principale est plate | {10-10} +/- 5,0 degrés | |||
Longueur plate primaire | 32.5 mm +/- 2,0 mm | |||
Longueur plate secondaire | 18.0 mm +/- 2,0 mm | |||
Orientation plat secondaire | Silicium face vers le haut: 90 degrés CW depuis le plateau primaire +/- 5,0 degrés | |||
Exclusion des bords | 3 mm | |||
LTV/TTV/Bow/Warp | Pour les appareils commande numérique | 10um /15um /25um /40um | ||
Roughness de la surface | Le polonais Ra < 1 nm sur la face C | |||
CMP Ra < 0,2 nm | Ra < 0,5 nm | |||
Les fissures inspectées par la lumière haute intensité | Aucune | Aucune | 1 permis, 2 mm | |
Plaques hexagonales inspectées par une lumière haute intensité | Surface cumulée ≤ 0,05% | Surface cumulée ≤ 0,1% | ||
Zones de polytypes inspectées par lumière haute intensité | Aucune | Aucune | Surface cumulée ≤ 3% | |
Des rayures inspectées par une lumière de haute intensité | Aucune | Aucune | Longueur cumulée≤1x diamètre de la gaufre | |
Déchiquetage des bords | Aucune | Aucune | 5 permis, ≤ 1 mm chacune | |
Contamination de surface vérifiée par la lumière de haute intensité | Aucune |
1- Stabilité haute température: les plaquettes de carbure de
silicium présentent une conductivité thermique extrêmement élevée
et une inerté chimique,leur permettant de maintenir leur stabilité
dans des environnements haute température sans subir facilement
d'expansion thermique et de déformation.
2Haute résistance mécanique: les plaquettes en carbure de silicium
ont une rigidité et une dureté élevées, ce qui leur permet de
résister des contraintes élevées et de lourdes charges.
3Excellentes propriétés électriques: les plaquettes en carbure de
silicium ont des propriétés électriques supérieures celles des
matériaux en silicium, avec une conductivité électrique élevée et
une mobilité électronique.
4- Excellente performance optique: les plaquettes en carbure de
silicium possèdent une bonne transparence et une forte résistance
aux rayonnements.
1. Invertisseurs, convertisseurs CC-DC et chargeurs embarqués pour
véhicules électriques: ces applications nécessitent un grand nombre
de modules de puissance.les dispositifs en carbure de silicium
permettent une augmentation significative de l'autonomie et une
réduction du temps de charge des véhicules électriques.
2Les dispositifs de puissance au carbure de silicium pour les
applications d'énergie renouvelable: Les dispositifs de puissance
au carbure de silicium utilisés dans les onduleurs pour les
applications d'énergie solaire et éolienne améliorent l'utilisation
de l'énergie.fournir des solutions plus efficaces pour atteindre un
pic de carbone et la neutralité carbone.
3. Applications haute tension comme les systèmes ferroviaires
grande vitesse, les systèmes de métro et les réseaux électriques:
les systèmes dans ces domaines exigent une tolérance haute tension,
une sécurité et une efficacité opérationnelle.Les dispositifs de
puissance basés sur l'épitaxie du carbure de silicium sont le choix
optimal pour les applications susmentionnées.
4• Dispositifs RF de haute puissance pour la communication 5G: Ces
dispositifs pour le secteur de la communication 5G nécessitent des
substrats haute conductivité thermique et propriétés
d'isolation.Cela facilite la réalisation de structures épitaxiales
GaN supérieures.
Q: Quelle est la différence entre le 4H-SiC et le SiC?
R: Le carbure de silicium 4H (4H-SiC) se distingue comme un
polytype supérieur de SiC en raison de son large espace de bande,
de son excellente stabilité thermique et de ses remarquables
caractéristiques électriques et mécaniques.
Q: Quand le SiC doit- il être utilisé?
R: Si vous voulez citer quelqu'un ou quelque chose dans votre
travail, et que vous remarquez que le matériel source contient une
erreur orthographique ou grammaticale,Vous utilisez sic pour
désigner l'erreur en le plaçant juste après l'erreur.
Q: Pourquoi 4H SiC?
R: Le 4H-SiC est préférable au 6H-SiC pour la plupart des
applications électroniques car il a une mobilité électronique plus
élevée et plus isotrope que le 6H-SiC.