Fabrication d'appareils électroniques et de dispositifs électriques

Vue d'ensemble du produit

Cette machine intégrée de nettoyage et de cirage des disques en céramique combine un nettoyeur de disques en céramique avec deux montures de disques en céramique,conçus pour le nettoyage haut rendement et le cirage des plaquettes dans les industries du saphir et des semi-conducteurs, atteignant un rendement stable de 99,9%.

Spécifications techniques

Principe de fonctionnement

Étape de nettoyage du disque céramique

• Nettoyage de précision: Utilise un nettoyage par ultrasons l'eau désionisée (≥ 12 MΩ·cm) pour éliminer les contaminants au niveau des microns des disques céramiques.

• Système de séchage: Des couteaux air haut rendement et le séchage sous vide garantissent une humidité résiduelle nulle.

Processus automatisé de cirage

• Alignement de la vision: Les caméras CCD scannent les coordonnées de surface du disque, atteignant une précision de positionnement de ±0,02 mm.

• Dépôt de cire contrôlé: Les têtes de distribution de cire programmables appliquent 0,8 g ± 0,05 g de cire par gaufre.

• Optimisation de la pression: Les actionneurs pneumatiques maintiennent une pression de contact uniforme de 5 10 N/cm2 pendant le montage des plaquettes.

Contrôle intégré

• Opération synchronisée: Le PLC coordonne le module de nettoyage et les deux stations de cirage, permettant un traitement parallèle (max. 30 disques/heure).

• Réactions de qualité: Les capteurs d'épaisseur en temps réel détectent l'uniformité de la couche de cire et ajustent automatiquement les paramètres si les écarts dépassent ±3%.

Principaux avantages

• Efficacité énergétique: Taux de recyclage de l'eau pure > 80%, consommation de cire de 0,8 g/wafer, énergie 35% inférieure par disque

• Connectivité intelligente: Compatible avec le MES/ERP pour la traçabilité des données de processus complets (épaisseur/pression/temps)

• Évolutivité: Outils et recettes personnalisables pour les disques non standard Φ300-650 mm

Capacité de production

Applications

Traitement complet des disques céramiques: Nettoyage→séchage→la cire dans une seule machine

Il est utilisé dans le traitement de matériaux semi-conducteurs tels que le carbure de silicium (SiC), le silicium (Si), le nitrure de gallium (GaN), et peut également être utilisé pour des matériaux tels que le saphir, la céramique, le cristal,MEMS, et produits optiques.

Questions et réponses

Q1: Comment assurer le taux de rendement?
R1: Le système de vision dédié pour les disques en céramique atteint une précision d'alignement en temps réel de ±0,02 mm.

Q2: Consommation d'eau lors du nettoyage des disques en céramique?
A2: Taux de recyclage de l'eau > 80%, consommation ≤ 0,5 L/disque

Q3: Comment obtenir un changement rapide de taille de la plaque?
R3: La bibliothèque de luminaires intelligents de la machine intégrée commute automatiquement l'outillage via la sélection HMI (temps de commutation <3 min).