Cible ronde de pulvérisation de tungstène pour les actions de revêtement de rond de tungstène de cible de tungstène de disque de tungstène de pulvérisation de magnétron

Number modèle:Coutume
Point d'origine:LA CHINE
Quantité d'ordre minimum:1kg
Conditions de paiement:T/T
Capacité d'approvisionnement:2000kgs/month
Délai de livraison:7~10 jours de travail
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Cible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron

 

1. Description de cible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron :

 

La couche de tungstène fait partie des TFT des écrans de TFT LCD. Ils sont employés quand des formats de grand-écran, la clarté d'image extrêmement élevée, et les rapports optimisés de contraste sont exigés. Des cibles de tungstène sont également employées dans l'industrie de la microélectronique, par exemple pour former des revêtements dans des filtres de fréquence (filtres d'onde acoustique de surface (SCIE), filtres en vrac d'onde acoustique (BAW)). D'autres demandes de cibles de tungstène incluent des barrières de diffusion ont fait de la nitrure de tungstène, des voies de conducteur dans les composants microélectroniques, et des couches transparentes pulvérisées réactives faites d'oxyde de tungstène pour des affichages d'OLED et des applications électrochimiques.

 

Dans le processus de pulvérisation de magnétron (processus de PVD), la cible de pulvérisation libère les particules minuscules en métal qui déposent sur le matériel enduire (IE le substrat), formant une couche mince. Ce processus de revêtement est économique et rapide, dans lequel tous les matériaux doivent répondre aux normes de qualité les plus strictes.

 

2. Taille et tolérance de cible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron :

 

Nom d'articleCible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron
Pureté99,95%
FormeCible plate/rotatoire, selon votre demande
Taille disponible

Rond : diamètre 25~300mm, épaisseur :<20mm>

Rectangulaire : Longueur jusqu' 1500mm

La personnalisation est disponible

CertificatsISO9001 : 2008, GV, le troisième rapport des essais
TechniquesPressing isostatique chaud
Application

Très utilisé dans des industries de transformation de revêtement

: Application électronique et de semi-conducteur.

B : Décoration et application de revêtement. etc.

 
L'autre taille peut être traitée selon le dessin du client.
 

La cible de pulvérisation de tungstène est produite avec une norme recuisent

Tolérance de largeur : +/--1/32 »

Tolérance de longueur : +1/16", -0 »

Finitions extérieures : Poli

Norme : ASTM B760

 

 

3. Composition chimique de cible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron :

 

Norme de qualité (99,95% W)
ÉlémentValeur (ÉlémentValeur (
Fe5MOIS10
Ni3P1
Al2C5
SI3O3
Ca3N3
Magnésium2  

 

4. Application de cible de pulvérisation de tungstène pour le revêtement de pulvérisation de magnétron :

 

Des cibles de pulvérisation de tungstène sont principalement employées dans les industries de l'électronique et de l'information, telles que des circuits intégrés, le stockage de l'information, des affichages cristaux liquides, la mémoire de laser, des dispositifs de contrôle électronique, etc. ; elles peuvent également être employées dans le domaine du revêtement en verre ; elles peuvent également être employées dans les matériaux résistants l'usure, la corrosion hautes températures de résistance, les produits décoratifs extrémité élevé et d'autres industries.

 


 
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Cible ronde de pulvérisation de tungstène pour les actions de revêtement de rond de tungstène de cible de tungstène de disque de tungstène de pulvérisation de magnétron

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