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Conclusion clé :
1. L'équipement de revêtement par pulvérisation cathodique
magnétron DC est une technologie de pulvérisation cathodique
magnétron alimentée par une alimentation DC.
2. Il se caractérise par une structure simple et un coût contrôlable, se concentrant principalement sur la préparation efficace de films métalliques. Il est largement utilisé dans les scénarios industriels et de revêtement de base de milieu bas de gamme.
Présentation de l'équipement :
Il utilise un courant continu haute tension pour ioniser un gaz
inerte (généralement de l'argon) afin de générer du plasma. En
confinant les électrons grce un champ magnétique, le trajet de
déplacement est prolongé, ce qui améliore l'efficacité des
collisions entre le plasma et le matériau cible. En conséquence,
les atomes du matériau cible (qui doit être un matériau conducteur)
sont pulvérisés et déposés sur la surface du substrat pour former
un film.
2. L'équipement a une structure compacte et est facile utiliser. Il
est principalement utilisé pour préparer des films métalliques, des
films d'alliage, etc., et convient la production en série et aux
exigences de revêtement fonctionnel de base.
Principales caractéristiques :
1. Il est alimenté par une alimentation DC, avec une structure de
circuit simple et des coûts de fabrication et d'exploitation de
l'équipement relativement faibles.
2. Il est uniquement compatible avec les matériaux cibles
conducteurs (tels que l'aluminium, le cuivre, le chrome, le titane
et autres cibles métalliques), et ne peut pas utiliser directement
de cibles céramiques isolantes.
3. Le taux de pulvérisation est stable et l'épaisseur du film est
facile contrôler, ce qui le rend adapté la production continue et
grande échelle.
4. La conception du champ magnétique est diverse (telle que le
magnétron équilibré et le magnétron déséquilibré), et l'adhérence
et la densité de la couche de film peuvent être ajustées en
fonction des exigences.
Principaux avantages :
1. Le seuil d'opération est bas, le réglage des paramètres est
simple, la maintenance est pratique et le coût d'exploitation et de
maintenance ultérieur est faible.
2. L'efficacité de préparation du film métallique est élevée, le
taux de pulvérisation est supérieur celui de la pulvérisation
cathodique magnétron radiofréquence et la consommation d'énergie
est plus faible.
3. La couche de film a une grande pureté, une bonne uniformité et
une excellente douceur de surface, répondant aux exigences
fonctionnelles et décoratives de base.
L'équipement a une forte stabilité, un faible taux de défaillance,
convient un fonctionnement continu long terme et offre des
performances de coût de production élevées.
Applications typiques :
1. Dans le domaine de la décoration :Revêtement de films décoratifs métalliques (tels que les films
d'aluminium, les films de chrome) pour les accessoires de
quincaillerie, les accessoires de meubles, les bijoux, etc.
2. Dans le domaine de l'électronique :Préparation de films conducteurs métalliques pour composants
électroniques (tels que les films d'électrodes pour condensateurs
et les films de plomb pour circuits imprimés).
3. Dans le domaine de l'emballage :Revêtement de films barrières (tels que les films composites en
feuille d'aluminium) pour les films plastiques et les feuilles
métalliques afin d'améliorer leurs propriétés barrières contre
l'oxygène et l'humidité.
4. Dans le domaine des outils et des machines :Revêtement de films métalliques résistants l'usure pour les outils
de coupe courants et les pièces mécaniques afin d'améliorer la
dureté de surface et la résistance l'usure.
5. Autres scénarios :Préparation de films fonctionnels de base tels que les films
conducteurs pour les feuilles arrière de cellules solaires et les
films réfléchissants pour le verre architectural.