11 réservoirs Machine de nettoyage des semi-conducteurs Machine de nettoyage des plaquettes de silicium 40KHZ

Numéro de modèle:Le numéro de série est le numéro de série de l'appareil.
Lieu d'origine:Dongguan, Guangdong
Quantité minimale de commande:1
Capacité à fournir:Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.
Délai de livraison:30 à 60 jours ouvrables
Détails de l'emballage:Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M*2 M*2,6 M
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Fournisseur Vérifié
Dongguan Guangdong China
Adresse: 2e étage, unité 2, bâtiment 16, n° 7, avenue des sciences et technologies, ville de Houjie, ville de Dongguan, province du Guangdong
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Machine de nettoyage par ultrasons entièrement automatique pour plaquettes de silicium semi-conducteurs

 

 

  1. Machine de nettoyage par ultrasons entièrement automatique pour plaquettes de silicium semi-conducteurs

    Nettoyage de précision redéfini pour la fabrication avancée de semi-conducteurs

    Vue d'ensemble du produit

    Conçu pour répondre aux exigences de propreté ultra élevées des plaquettes de silicium semi-conducteurs, leLe numéro de série est le numéro de série de l'avion.est un système de nettoyage par ultrasons entièrement automatique qui combine une technologie de pointe avec une automatisation intelligente.résidus organiquesAvec une conception modulaire de 10 réservoirs et des matériaux conformes SEMI, il est possible d'utiliser des matériaux de haute qualité pour la fabrication d'un système de dépôt de métaux.Il fournit une cohérence, des résultats répétables pour le nettoyage critique avant et après la fabrication.

    Fonctions essentielles et excellence technique

    1.Processus de nettoyage par ultrasons en plusieurs étapes

    • Cavitation haute fréquence de 40 kHz:
      Génère des micro-bulles qui implodent sur les surfaces des plaquettes, délogant des particules aussi petites que 0,2 μm sans contact physique.et oxydes natifs de matériaux semi-conducteurs délicats.
    • Flux de travail intégré 10 réservoirs:
      • Réservoirs 1-2: Pré-lavage l'eau diluée et agitation mégasonique pour éliminer les débris lourds.
      • Les réservoirs 3 6: Nettoyage par ultrasons avec des solutions chimiques (par exemple, SC1/SC2 pour le nettoyage par RCA) 60°C 100°C pour éliminer les contaminants organiques et ioniques.
      • Les réservoirs 7-9: rinçage l'eau DI en plusieurs étapes par ultrafiltration (0,1 μm) pour éviter la contamination croisée.
      • Réservoir 10: Système de séchage rapide DryN2TM avec de l'azote chauffé (≤ 5% RH) pour obtenir des surfaces sans tache et sans statique.

    2.Contrôle intelligent entièrement automatisé

    • Interface PLC + HMI:
      L'écran tactile de 15 pouces permet la programmation de plus de 100 recettes personnalisées, la surveillance en temps réel des paramètres (température, puissance ultrasonique, débit de rinçage) et le suivi de l'OEE (efficacité globale de l'équipement).
    • Manipulation robotique des gaufres:
      Un bras robotique de précision avec pinces revêtues de téflon assure un transfert doux et sûr des plaquettes (vitesse ≤ 1,5 m/s) entre les réservoirs, minimisant la production et la rupture de particules.

    3.Conception de matériaux de haute pureté

    • Composants mouillés:
      Les réservoirs et les buses sont construits en acier inoxydable 316L (Ra < 0,2 μm) et en PTFE électropolissé, éliminant la lixiviation des ions métalliques et la corrosion chimique.
    • Filtration en boucle fermée:
      Les systèmes de filtration recirculation avec filtres membrane de 0,1 μm et oxydation UV réduisent la consommation chimique de 60% et assurent la pureté du liquide de nettoyage (TOC < 5 ppm).
China 11 réservoirs Machine de nettoyage des semi-conducteurs Machine de nettoyage des plaquettes de silicium 40KHZ supplier

11 réservoirs Machine de nettoyage des semi-conducteurs Machine de nettoyage des plaquettes de silicium 40KHZ

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