Machine de nettoyage de gaufres à semi-conducteurs 120 kW Machine à laver par ultrasons 40 KHZ / 80 KHZ

Nettoyeur de gaufres semi-conducteurs, nettoyage alcalin par ultrasons + nettoyage acide par ultrasons + rinçage l'eau pure

Principaux avantages techniques

I. Système de nettoyage par dégradation trois réservoirs

1. réservoir de nettoyage alcalin ultrasons (pH 10-13)

Paramètres techniques:

▶ Fréquence: 80 kHz/120 kHz Commutation double fréquence (support d'échographie pulsée) ▶ Matériau du réservoir: revêtement PTFE modifié + cadre en acier inoxydable 316L (résistance haute température 130°C,Résistance la corrosion par NaOH/ammoniac)

▶ Médium de nettoyage: solution alcaline telle que l'hydroxyde de potassium (KOH), l'hydroxyde de tétraméthylammonium (TMAH), etc.

Fonctions essentielles: ✔ Efficace décapage des résidus photorésistants: destruction de la liaison moléculaire du film adhésif par effet de cavitation, avec un contrôle de température constante de 50 80 °C,en supprimant 990,9% de SU-8 / photorésistance positive dans les 15 minutes

✔ Capture des particules contaminantes: cartouche PP intégrée de taille micron (5 μm) + Filtre magnétique (capture du Fe/Co et d'autres particules métalliques). ✔ Filtration en temps réel des déchets de nettoyage

2. réservoir de nettoyage par acide ultrasonique (pH 1-3)

Paramètres techniques:

▶ Fréquence: ultrasons haute fréquence de 150 kHz (réduit la taille des bulles de cavitation pour minimiser les dommages la surface de la gaufre)

▶ Matériau du réservoir: revêtement en résine perfluoroalcoxy (PFA) (résistant aux HF).

▶ Médium de nettoyage: écorceur d'oxyde tampon BOE (HF:NH4F=1:6), aqua regia (HNO3:HCl=1:3)

Fonctions de base:

✔ Profondeur de l'élimination des ions métalliques ✔ Contrôle de la rugosité de la surface: pour les résidus d'électrodes Al/Cu, par gravure acide + vibration ultrasonique, obtenir des résidus de Na+/K+ < 1010 atomes/cm2

✔ Contrôle de la rugosité de la surface: puissance ultrasonique réglée dynamiquement (50-300W), avec précision de contrôle de la température ±0,5 °C, pour s'assurer que la valeur de surface de la plaque Ra ≤ 0,2 nm

3. réservoir de rinçage méga-sonicité eau pure (résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm)

Paramètres techniques:

▶ Fréquence: ultrasons MF 850 kHz ( seuil de cavitation > 200 μm, pour éviter les dommages causés par les chocs liquides)

▶ Surveillance de la qualité de l'eau: détecteur TOC en ligne (décision de détection ≤ 5 ppp) + compteur de particules (détection de la taille des particules 0,1 μm)

▶ Méthode de rinçage: rinçage contre-courant (taux d'utilisation de l'eau pure augmenté 85%) + cavitation méga-sonore (décapage des particules sous-microniques)

Principales caractéristiques:

✔ Nettoyage sans résidus: adoptez la filtration en trois étapes de l'eau par DI (charbon actif + membrane RO + résine de polissage), avec un débit de 50 L/min, pour réaliser un TOC résiduel < 10 pppb en 10 minutes

✔ Nettoyage amélioré par bordure: bras de pulvérisation rotatif breveté (vitesse réglable de 0 300 tr/min), pour résoudre le point mort de nettoyage d'une zone de 1 mm sur le bord de la galette.

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