Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince

Détails de l'emballage:Emballage de boîtes en bois
Capacité à fournir:30 morceaux/morceaux par Quart
Quantité minimale de commande:1 série
Délai de livraison:60 jours
Conditions de paiement:L/C/T/t
Lieu d'origine:Hunan, Chine
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Fournisseur Vérifié
Zhuzhou Hunan China
Adresse: Bâtiment B4, parc industriel de Xinma, 959 avenue Tianyi, district de Tianyuan, ville de Zhuzhou, province du Hunan, Chine
dernière connexion fois fournisseur: dans 24 heures
Détails du produit Profil de la société
Détails du produit
Les spécifications:
Pièces de chauffage vide:
Principalement utilisé pour la préparation de matériaux composites carbone-carbone, et le four de dépôt est principalement utilisé pour la préparation d'un revêtement pyrolytique de carbone sur la surface du graphite,appareils semi-conducteurs et matériaux de nettoyage résistants la chaleur.
Paramètre/numéro de modèle
JT-0305-C
JT-0505-C
JT-0608-C
JT-0608-C
Le numéro de téléphone est le numéro de téléphone de l'entreprise.
JT-1120-C
JT-1218-C
JT-1520-C
Taille de la zone de travail
φ × H ((mm)
300 × 500
500 × 500
600 × 800
600 × 1200
800×1200
1100 × 2000
1200 × 1800
1500 × 2000
Température maximale
(°C)
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
Uniformité de température ((°C)
± 5
± 5
± 5 ± 7.5
±7,5 ou ±10
±7,5 ou ±10
±10/±15
±10/±15
± 15 ou ± 20
Définition de l'équipement
1 100
1 100
1 100
1 100
1 100
1 100
1 100
1 100
Définition de l'équipement
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
Méthode de chauffage
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Température de conception
Pour le calcul de la température de l'air, il convient de déterminer la température de l'air.
Température commune
900 1200°C
Degré de vide
Pour les appareils électroniques
Taux de hausse de pression
6.67pA/h ((ou 150Pa/24h) froid dans un four vide
Mode de chauffage
chauffage par résistance au graphite ou chauffage par induction, contrôle indépendant de la température, bonne uniformité de la température
Média atmosphérique
sous vide /CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Mode de commande du gaz
contrôle du débitmètre de masse, voie de gaz multicanal, champ de débit uniforme, pas d'angle mort de dépôt, bon effet de dépôt;système de traitement des gaz d'échappement multifase et efficace, respectueux de l'environnement,facile nettoyer
Type de four
structure carrée, ronde, verticale ou horizontale (conception non standard), chambre de dépôt entièrement fermée, bon effet d'étanchéité,
une forte capacité antipollution;
Mode de refroidissement du four
refroidissement l'eau de la coque du four, système de refroidissement rapide circulation externe peut être sélectionné, temps de refroidissement court, production élevée
l'efficacité;
Forme de la structure
décharge horizontale - latérale, verticale - décharge vers le haut/vers le bas
Mode de verrouillage
manuel/automatique
Matériau de coquille
acier inoxydable intérieur/tout acier inoxydable
Matériau d'isolation
Feutre de carbone/feutre de graphite/feutre de fibre de carbone durci
Instruments infrarouge
une colorimétrie simple/une double colorimétrie
Énergie électrique
KGPS/IGBT ((uniquement adapté au chauffage moyenne fréquence)
Paramètre du produit:
 
 
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Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince

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