Utilisation dans l'industrie des appareils électroniques, des semi-conducteurs et de la production Sihcl3 trichlorosilane (TCS)

Lieu d'origine:Chine
Numéro de modèle:Sicl3
Quantité minimale de commande:1 kg ou plus
Conditions de paiement:L/C, T/T
Capacité à fournir:500 tonnes par mois
Délai de livraison:30 jours
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Description du produit

SiHCl3 fait référence au trichlorosilane, qui est un composé chimique composé d'un atome de silicium lié trois atomes de chlore et un atome d'hydrogène.

  1. Formule chimique: SiHCl3
  2. Poids moléculaire: 135,4 g/mol
  3. Structure: Le trichlorosilane a une géométrie moléculaire tétraédrique, avec l'atome de silicium au centre et trois atomes de chlore et un atome d'hydrogène disposés autour.
  4. Propriétés physiques: Le trichlorosilane est un liquide incolore température ambiante, a une odeur piquante et est très volatile.
  5. Production: Le trichlorosilane est principalement produit par réaction du silicium de qualité métallurgique avec du chlorure d'hydrogène.Il s'agit d'un produit intermédiaire dans la production de silicium de haute pureté pour l'électronique et les applications de cellules solaires..
  6. Réactivité chimique: le trichlorosilane est réactif et peut subir diverses réactions chimiques.Il peut également réagir avec d'autres composés pour former des produits contenant du silicium.
  7. Applications: Le trichlorosilane est un précurseur clé dans la production de silicium pour les industries électronique et solaire.Il est utilisé pour produire des plaquettes de silicium de haute pureté pour les appareils semi-conducteurs et les cellules photovoltaïquesLe trichlorosilane est également utilisé dans la production de silicones, qui ont un large éventail d'applications, notamment comme scellants, adhésifs, lubrifiants et revêtements.
  8. Considérations de sécurité: le trichlorosilane est une substance corrosive et toxique.Il peut causer de graves brûlures au contact de la peau ou des yeux et peut libérer du chlorure d'hydrogène toxique lorsqu'il est exposé l'humidité.. Des précautions de sécurité appropriées, y compris l'utilisation d'équipements de protection et la manipulation dans des zones bien ventilées, doivent être suivies.
  9. Conservation et manipulation: Le trichlorosilane est généralement stocké et manipulé dans des contenants scellés pour éviter l'exposition l'air et l'humidité.Il doit être conservé loin des substances incompatibles et manipulé avec précaution en raison de sa réactivité et de sa toxicité..
  10. Impact sur l'environnement: le trichlorosilane peut avoir des effets néfastes sur l'environnement s'il est libéré sans traitement ou confinement appropriés.Il est important de les manipuler et de les éliminer conformément la réglementation locale et aux meilleures pratiques afin de minimiser leur impact..

 

Informations de base.

Numéro de modèle:SiHCl3QualitéGrade d'électron
Paquet de transportLe cylindre en Y, le tambour en T, le réservoir en TtSpécification20L, 40L, 280L et personnalisable
Marque déposéeCMCOrigineSuzhou, en Chine
Code du SH2812190091Capacité de production500 tonnes par mois


Les spécifications:

Trichlorosilane
est un précurseur de silicium pour les films minces contenant du silicium épitaxial, en particulier pour le
préparation des plaquettes de départ.

Profil de l'entreprise

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd est composé de personnel qualifié, combinant de nombreuses années d'expérience dans l'industrie du gaz.Nous fournissons du gaz de bouteille, du gaz électronique, etc. et le support de gaz, panneau,autres équipements, pièces et services d'ingénierie nos clients en Chine et dans le monde; Les produits sont impliqués dans divers domaines industriels, tels que la puce semi-conducteur, la cellule solaire, LED, TFT-LCD, fibre optique,de verreNotre mission est de collaborer avec nos clients mondiaux pour fournir un soutien, des solutions et des produits de qualité innovants, fiables et sûrs.
Nos produits comprennent principalement: H2, O2, N2, Ar, CO2, propane, acétylène, hélium, gaz mélangé au laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gaz mélangé dopant (TMB, PH3,B2H6) et autres gaz électroniques.

                   

 

 

 

  

 

 

 

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Utilisation dans l'industrie des appareils électroniques, des semi-conducteurs et de la production Sihcl3 trichlorosilane (TCS)

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