Longueur titanique de la cible 2940mm de pulvérisation du tube Gr2 d'ASTM B861

Number modèle:Cible titanique de tube
Point d'origine:Baoji, Shaanxi, Chine
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Baoji Shaanxi China
Adresse: Parc industriel de village de Gaoya, ville de Bayu, zone de pointe de développement, ville de Baoji, province de Shaanxi, Chine
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La cible titanique ASTM B861-06 de tube un 133OD*125ID*2940L incluent la bride Gr2 titanique

NomCible titanique de tube
NormeASTM B861

Paquet de transport

Emballage sous vide dans le cas en bois

Origine

Baoji, Shaanxi, Chine

Port de livrer

Port de Xi'an, port de Pékin, port de Changhaï, port de Guangzhou, port de Shenzhen

Tailleφ133*φ125*2940 (incluez la bride)

 

La cible de tube est une source de pulvérisation qui peut former de divers films fonctionnels sur le substrat par l'électrodéposition d'ion de multi-arc de pulvérisation de magnétron ou d'autres types de procédé de protection dans des conditions technologiques appropriées. En bref, la cible est le matériel de cible bombardant par les particules chargées ultra-rapides. Une fois utilisées dans des armes laser de grande énergie, les différentes densités de puissance, formes d'onde de sortie et longueurs d'onde des lasers agissent l'un sur l'autre avec différentes cibles, massacre différent et des effets de destruction seront produits. Par exemple, le revêtement de pulvérisation de magnétron d'évaporation est revêtement d'évaporation de chauffage, film en aluminium, remplacement etc. de différents matériaux de cible (tels que l'aluminium, le cuivre, l'acier inoxydable, le titane, la cible de nickel, etc.), peut obtenir une métallisation sous vide différente du système de film (par exemple, dur, usage-résistance, membrane anti-corrosive d'alliage, etc.) est se rapporte dans l'état du métal de chauffage de vide poussé ou le matériel de non-métal, font son évaporation et condensation dans la surface de électrodéposition de pièces, en métal, de semi-conducteur ou d'isolateur pour former une couche mince d'une méthode.
La métallisation sous vide est un aspect important de champ d'application de vide, il est basée sur la technologie de vide, suivre des méthodes physiques ou chimiques, et l'absorption du faisceau d'électrons, la poutre moléculaire, le faisceau d'ions, le faisceau d'ions, la radiofréquence et le contrôle magnétique et des séries de nouvelles technologies, pour que la recherche scientifique et la production pratique fournisse un nouveau procédé de préparation de film.

 

Principaux avantages

  1. Faible densité et haute résistance de spécifications
  2. Personnalisation de demande de client
  3. Excellente résistance la corrosion
  4. Bonne résistance l'effet de la chaleur
  5. Excellente incidence la propriété de cryogénie
  6. Bonnes propriétés thermiques
  7. Bas module d'élasticité
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Longueur titanique de la cible 2940mm de pulvérisation du tube Gr2 d'ASTM B861

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