Le métal de W-Ti pulvérisant vise la billette planaire pour le dépôt physique de vapeur de semi-conducteur
Number modèle:fgd t-002
Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:50KG
Conditions de paiement:L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement:50 tonnes métriques par mois
Délai de livraison:3-5 jours
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Luoyang Henan China
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N° 102, bâtiment 33, phase II du parc industriel de Zhongde, district de Yibin, ville de Luoyang, province du Henan
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Cible de pulvérisation W-Ti d'alliage de tungstène de très haute pureté Plaque Planar Billet pour dépôt de vapeur physique des semi-conducteurs
Le tungstène-titane (WTi) les films sont connus pour agir comme une barrière de diffusion efficace entre l'Al et le Si dans l'industrie des semi-conducteurs et des cellules photovoltaïques.WTiLes films sont généralement déposés sous forme de films minces par dépôt de vapeur physique (PVD) par pulvérisation d'unWTiIl est souhaitable de produire une cible qui assurera l'uniformité du film,Pour satisfaire aux exigences de fiabilité des barrières de diffusion des circuits intégrés complexes, leWTila cible d'alliage doit avoir une pureté et une densité élevées.
| Le type | W (poids en %) | - Je vous en prie. (poids en %) | La pureté (poids en %) | Densité relative (en %) | Taille du grain (μm) | Dimension (mm) | Ra (μm) |
| Le WTi-10 | 90 | 10 | 99.9 99.995 | ≥ 99 | ≤ 20 | ≤Ø452 | ≤ 16 |
| Le WTi-20 | 80 | 20 | 99.9 99.99 | ≥ 99 | ≤ 20 | ≤Ø452 | ≤ 16 |
| WTi | 70 90 | 10 30 | 99.9 99.995 | ≥ 99 | ≤ 20 | ≤Ø452 | ≤ 16 |
Le métal de W-Ti pulvérisant vise la billette planaire pour le dépôt physique de vapeur de semi-conducteur
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