La taille adaptée aux besoins du client pulvérisant vise le matériel granulaire d'évaporation d'en cuivre électrolytique de la catégorie 6N

Numéro de type:Cible de cuivre de pulvérisation
Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:1 kg
Conditions de paiement:L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement:100000kgs/M
Délai de livraison:10~25 jours de travail
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Pureté ultra grande granulaire 99,999%, matériel d'en cuivre de l'évaporation 99,9999%

le cuivre électrolytique de la pureté 6N ultra-haute est principalement employé dans la production de la cible de pulvérisation, du film d'évaporation et des matériaux d'anode pour des circuits intégrés.

 

Pureté : 99,999% | 99,9999%

Pour le contrôle précis du contenu d'impureté, le contenu d'AG peut être commandé au-dessous de 0.1ppm et de contenu de s au-dessous de 0.02ppm

 

Le contenu des éléments de gaz (C, O, N, H) est moins que 1ppm

Utilisations principales : le cuivre 6N a quelques propriétés semblables l'or, bonne représentation de conductivité, de ductilité, de résistance la corrosion et de surface, et basse température de ramollissement. Comme nouveau genre de matériel, le cuivre de grande pureté est non seulement employé dans la préparation des matériaux standard analytiques de grande pureté d'essai, divers fils se reliants pour l'industrie électronique, collant des fils pour l'emballage électronique, des fils audio de haute qualité et des circuits intégrés, pulvérisant des cibles pour le revêtement d'affichage cristaux liquides et d'ion, mais un matériel également indispensable et précieux dans l'énergie atomique, la fusée, le missile, l'aviation, l'espace et les industries métallurgiques. Comme nouveau matériel, le cuivre ultra pur a été prêté de plus en plus l'attention. En plus de la préparation des matériaux standard analytiques de grande pureté d'essai, divers fils se reliants pour l'industrie électronique, fils de collage pour l'emballage électronique, fils et circuits intégrés audio de haute qualité, cibles de pulvérisation et revêtement d'ion pour l'affichage cristaux liquides, circuits audio de haute qualité et d'autres champs de pointe, le cuivre de grande pureté est également employé dans l'énergie atomique, fusées, missiles, aviation, navigation spatiale et d'autres matériaux précieux de champs sont indispensables dans l'industrie métallurgique. Avec le développement de la technologie élevée et nouvelle et le besoin des matériaux stratégiques, les métaux de grande pureté ont des conditions plus élevées et plus élevées pour la pureté. La préparation et l'application des métaux de grande pureté et d'ultra-haut-pureté en science des matériaux et ingénierie modernes sont de nouveaux et croissants champs.

 

 

99,9999% granulaires de cuivre, la cible de cuivre 99,999% de cylindre sont disponibles dans des tailles variables

Tailles : 3x3mm, 6x6mm, 3x6mm etc.

 

Cibles de pulvérisation de plat :

 

Épaisseur : 0,04 1,40 » (1,0 35mm).

Largeur jusqu' 20" (50 500mm).

Longueur : 3,9" 6,56 pieds (100-2000mm)

d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

Cibles de pulvérisation de cylindre :

 

3,94 diamètre X 1,58 » (100 diamètre X 40mm)

2,56 diamètre X 1,58 » (65 diamètre X 40mm)

ou 63*32mm d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

Cibles de pulvérisation de tube :

 

2,76 OD X 0,28 POIDS x 39,4" L (70 OD X 7 POIDS x 1000mm L)

3,46 OD X 0,39 POIDS x 48,4" L (88 OD X 10 POIDS x 1230mm L)

d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

Avantage :

 

 

1. Pureté : 99,99% | 99,9999%

2. Haute densité, aucun défauts l'intérieur, même grains et surface douce

3. Fonte unique et procédé de moulage de contrôle de la pollution

4. Il peut répondre aux besoins de l'alliage adapté aux besoins du client

5. Technologie unique de contrôle d'homogénéisation des éléments supplémentaires

6. Contrôle unifié de microstructure

 

Le cuivre de grande pureté se rapporte au cuivre en métal avec une pureté de plus que 4N. Le cuivre de grande pureté a un secteur très petit de joint de grain, peu de défauts de trellis, certaines de ses propriétés sont semblable l'or, avec la bonne conductivité, la ductilité, la résistance la corrosion et la représentation de surface, alors que la température de ramollissement est relativement basse. Le cuivre de grande pureté a la conduction thermique élevée et l'excellente représentation de traitement la température basse. Le cuivre de grande pureté est très utilisé dans le circuit intégré, l'emballage électronique, la technologie photovoltaïque d'énergie solaire et d'autres domaines. Ces dernières années, avec le développement de l'entreprise high tech, le cuivre de grande pureté a été très utilisé. La préparation du cuivre de grande pureté est habituellement divisée en deux étapes de la purification et de la purification superbe. La préparation du cuivre de grande pureté prend généralement le cuivre brut comme matière première, et enlève plus loin les impuretés pour obtenir le cuivre 5n-7n de grande pureté. Actuellement, les méthodes principales de préparer le cuivre de grande pureté sont raffinage de secteur, échange anionique et électroraffinage. La méthode de raffinage régionale est l'une des méthodes principales pour préparer les métaux de grande pureté. Actuellement, les méthodes de raffinage régionales de cuivre de grande pureté incluent la méthode de raffinage régionale de flottement et la méthode de raffinage régionale de désulfuration

 
Nom de produitÉlémentPurirty℃ de point de fusionDensité (g/cc)Formes disponibles
Haut ruban purAG4N-5N96110,49Fil, feuille, particule, cible
Haut aluminium purAl4N-6N6602,7Fil, feuille, particule, cible
Haut or purAu4N-5N106219,32Fil, feuille, particule, cible
Haut bismuth purBi5N-6N271,49,79Particule, cible
Haut cadmium purCd5N-7N321,18,65Particule, cible
Haut cobalt purCo4N14958,9Particule, cible
Haut chrome purCr3N-4N18907,2Particule, cible
Haut cuivre purCu3N-6N10838,92Fil, feuille, particule, cible
Haut Ferro purFe3N-4N15357,86Particule, cible
Haut germanium purGE5N-6N9375,35Particule, cible
Haut indium purDans5N-6N1577,3Particule, cible
Haut magnésium purMagnésium4N6511,74Fil, particule, cible
Haut magnésium purManganèse3N12447,2Fil, particule, cible
Haut molybdène purMOIS4N261710,22Fil, feuille, particule, cible
Haut niobium purNOTA:4N24688,55Fil, cible
Haut nickel purNi3N-5N14538,9Fil, feuille, particule, cible
Avance pure élevéePb4N-6N32811,34Particule, cible
Haut palladium purPalladium3N-4N155512,02Fil, feuille, particule, cible
Haut platine purPinte3N-4N177421,5Fil, feuille, particule, cible
Haut silicium purSI5N-7N14102,42Particule, cible
Haut étain purSn5N-6N2327,75Fil, particule, cible
Haut tantale purMerci4N299616,6Fil, feuille, particule, cible
Haut tellurium purTe4N-6N4256,25Particule, cible
Haut titane purTi4N-5N16754,5Fil, particule, cible
Haut tungstène purW3N5-4N341019,3Fil, feuille, particule, cible
Haut zinc purZn4N-6N4197,14Fil, feuille, particule, cible
Haut zirconium purZr4N14776,4Fil, feuille, particule, cible

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La taille adaptée aux besoins du client pulvérisant vise le matériel granulaire d'évaporation d'en cuivre électrolytique de la catégorie 6N

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