Substrat libre de N-GaN GaN (nitrure d'avion de grande pureté de M de gallium)

Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:1-10,000pcs
Conditions de paiement:T/T.
Capacité d'approvisionnement:10 000 gaufrettes/mois
Délai de livraison:5-50 jours ouvrables
Détails d'emballage:Emballé dans un environnement de pièce propre de la classe 100, dans le conteneur simple, sous une a
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Xiamen Fujian China
Adresse: #506B, centre d'affaires de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zone de pointe, Huli, Xiamen 361006, Chine
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Substrat libre de N-GaN GaN (nitrure d'avion de grande pureté de M de gallium)

 

PAM-XIAMEN a établi la technologie manufacturière pour (nitrure de gallium) la gaufrette libre de substrat de GaN qui est pour UHB-LED et LD. Développé par technologie de (HVPE) d'épitaxie de phase vapeur d'hydrure, notre substrat de GaN a la basse densité de défaut et moins ou la macro densité libre de défaut.

 

PAM-XIAMEN offre la gamme complète de GaN et matériaux relatifs d'III-N comprenant des substrats de GaN de diverses orientations et conductivité électrique, calibres de crystallineGaN&AlN, et epiwafers faits sur commande d'III-N.

 

Montre ici des spécifications de détail :

Substrat libre de N-GaN GaN d'avion de M

ArticleManganèse Pam-FS-GaN
Dimension5 x 10 millimètres2
Épaisseur350 ±25 µm du µm 430 ±25
Orientation

Avion de M (1-100) outre d'angle vers l'Un-axe 0 ±0.5°

Avion de M (1-100) outre d'angle vers le C-axe -1 ±0.2°

Type de conductionde type n
Résistivité (300K)< 0="">
TTVµm du ≤ 10
ARC-10 µm du ≤ 10 d'ARC de ≤ de µm
Aspérité

Partie antérieure : Ra<0>

Arrière : La terre fine ou poli.

Densité de dislocationDe 1 de x 10 5 5 de x 10 6 cm-2
Macro densité de défaut0 cm2
Secteur utilisable> 90% (exclusion de bord)
Paquetchacun dans le conteneur simple de gaufrette, sous l'atmosphère d'azote, emballée dans la pièce propre de la classe 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Application de substrat de GaN

 

Éclairage semi-conducteur : Des dispositifs de GaN sont utilisés en tant que diodes électroluminescentes de luminosité ultra intense (LED), TV, automobiles, et éclairage général

 

Stockage de DVD : Diodes lasers bleues

 

Dispositif de puissance : Des dispositifs de GaN sont utilisés en tant que divers composants dans l'électronique de puissance de haute puissance et haute fréquence comme les stations de base, les satellites, les amplificateurs de puissance, et les inverseurs/convertisseurs cellulaires pour des véhicules électriques (EV) et des véhicules électriques hybrides (HEV). La basse sensibilité de GaN aux rayonnements ionisants (comme d'autres nitrures de groupe III) lui fait un matériel approprié pour des applications capable de supporter l'espace telles que des rangées de pile solaire pour des satellites et des dispositifs de haute puissance et haute fréquence pour la communication, le temps, et des satellites de surveillance

Stations de base sans fil : Transistors de puissance de rf

Access bande large sans fil : MMICs haute fréquence, Rf-circuits MMICs

Capteurs de pression : MEMS

Capteurs de la chaleur : détecteurs Pyro-électriques

Conditionnement de puissance : Intégration des messages mélangés GaN/Si

Électronique automobile : L'électronique hautes températures

Lignes de transport d'énergie : L'électronique haute tension

Capteurs de cadre : Détecteurs UV

Piles solaires : L'espace de bande large de GaN couvre le spectre solaire de 0,65 eV l'eV 3,4 (qui est pratiquement le spectre solaire entier), préparant la nitrure de gallium d'indium

(InGaN) allie parfait pour créer le matériel de pile solaire. En raison de cet avantage, des piles solaires d'InGaN développées sur des substrats de GaN sont portées en équilibre pour devenir une des nouvelles demandes et du marché de croissance les plus importants de gaufrettes de substrat de GaN.

Idéal pour des HEMTs, FETs

Projet de diode de GaN Schottky : Nous acceptons Spéc. de coutume des diodes de Schottky fabriquées sur les couches de nitrure de gallium (GaN) de n et les p-types HVPE-élevés et libres.

Les deux contacts (ohmiques et Schottky) ont été déposés sur la surface supérieure utilisant Al/Ti et Pd/Ti/Au.

 

 

RAPPORT de matériel-ESSAI extérieur de rugosité-GaN

 

Un rapport des essais est nécessaire pour montrer la conformité entre la description faite sur commande et nos données finales de gaufrettes. Nous examinerons le characerization de gaufrette par l'équipement avant l'expédition, examinant l'aspérité au microscope atomique de force, le type par l'instrument romain de spectres, la résistivité par l'équipement de non contact d'essai de résistivité, la densité de micropipe au microscope de polarisation, l'orientation par le rayon X Orientator etc. si les gaufrettes répondent l'exigence, nous nettoierons et les emballer dans la pièce propre de 100 classes, si les gaufrettes n'assortissent pas Spéc. de coutume, nous l'enlèverons.

 

L'aspérité habituellement se raccourcit la rugosité et est un composant de la texture extérieure. Elle est mesurée par la déviation de la direction normale de vecteur de la vraie surface de sa forme idéale. Si ces déviations sont grandes, la surface est rugueuse ; Si elles sont petites, la surface est lisse. Dans la mesure extérieure, la rugosité est généralement considérée le composant haute fréquence de longueur d'ondes courtes de la surface d'échelle de mesure. Dans la pratique, cependant, il est souvent nécessaire de connaître l'amplitude et la fréquence pour s'assurer que la surface convient un but.

 

Est ci-dessous un exemple de l'aspérité du matériel de GaN :

 

 

Une rugosité-gan extérieure

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Substrat libre de N-GaN GaN (nitrure d'avion de grande pureté de M de gallium)

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