Le type de P, Zn-a enduit Crystal InAs Wafer simple, 2", catégorie d'essai

Brand Name:PAM-XIAMEN
Minimum Order Quantity:1-10,000pcs
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Payment Terms:T/T
Place of Origin:China
Supply Ability:10,000 wafers/month
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P dactylographient, la gaufrette d'InAs, 2", catégorie d'essai

PAM-XIAMEN offre la gaufrette d'InAs – arséniure d'indium qui est développé par LEC (Czochralski encapsulé par liquide) ou VGF (gel vertical de gradient) en tant que catégorie epi-prête ou mécanique avec le type de n, le type de p ou non dopé dans l'orientation différente (111), (100) ou (110). PAM-XIAMEN peut fournir la gaufrette prête d'InAs de catégorie d'epi pour votre application épitaxiale de MOCVD et de MBE. Veuillez contacter notre équipe d'ingénieur pour plus d'information de gaufrette.

 

2" spécifications de gaufrette d'InAs

ArticleCaractéristiques
DopantZinc
Type de conductionde type p
Diamètre de gaufrette2"
Orientation de gaufrette(100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette500±25um
Longueur plate primaire16±2mm
Longueur plate secondaire8±1mm
Concentration en transporteur(1-10) x1017cm-3
Mobilité100-400cm2/V.s
EPD<3x104cm-2
TTV<10um
ARC<10um
CHAÎNE<12um
Inscription de lasersur demande
Finition de SufaceP/E, P/P
Epi prêtoui
PaquetConteneur ou cassette simple de gaufrette

 

Quel est le processus d'InAs ?

Des gaufrettes d'InAs doivent être préparées avant la fabrication de dispositif. Pour commencer, elles doivent être complètement nettoyées pour enlever n'importe quels dommages qui pourraient s'être produits pendant le processus de découpage en tranches. Les gaufrettes alors sont chimiquement mécaniquement polies/Plaranrized (CMP) pour l'étape matérielle finale de retrait. Ceci tient compte de l'accomplissement des surfaces comme un miroir superbe-plates avec une rugosité restante sur une échelle atomique. Ensuite cela est accompli, la gaufrette est prêt pour la fabrication.

Concentration en structure et en transporteur de bande de gaufrette d'InAs

Paramètres de base

Domaine d'énergie0,354 eV
Séparation d'énergie (EΓL) entre Γ et L vallées0,73 eV
Séparation d'énergie (EΓX) entre les vallées de Γ et de XeV 1,02
Division rotation-orbitale d'énergie0,41 eV
Concentration en transporteur intrinsèque1·1015 cm-3
Résistivité intrinsèque0,16 Ω·cm
Densité efficace de bande de conduction des états8,7·1016 cm-3
Densité efficace de bande de valence des états6,6·1018 cm-3

 

Concentration en structure et en transporteur de bande d'InAs.
Les minimum importants de la bande de conduction et des maximum de la valence se réunissent.
Par exemple = 0,35 eV
EV 1,08 d'EL=
EV 1,37 d'EX=
Eso = 0,41 eV

Les dépendances de la température

La dépendance de la température du domaine d'énergie direct

Par exemple = 0,415 - 2,76·10-4·T2 (T+83) (eV),

l où T est la température en degrés K (0 <T < 300).
 

Densité efficace des états dans la bande de conduction

Nc≈1.68·1013·T3/2 (cm-3).

Densité efficace des états dans la bande de valence

Nv≈ 1,27·1015·T3/2 (cm-3).

Les dépendances de la température de la concentration en transporteur intrinsèque.
Niveau de Fermi contre la température pour différentes concentrations des donateurs peu profonds et des accepteurs.

Les dépendances l'égard la pression hydrostatique

Par exemple ≈ par exemple (0) + 4,8·10-3P (eV)
EL D'EL≈ (0) + 3,2·10-3P (eV)

l où P est pression dans kbar 

Domaine d'énergie se rétrécissant la haute enduisant des niveaux

Domaine d'énergie se rétrécissant contre le donateur (courbe 1) et accepteur (courbe 2) enduisant la densité.
Les courbes sont s'accorder calculé
Les points donnent des résultats expérimentaux pour des n-InAs

Pour InAs de type n

ΔEg = 14,0·10-9·Nd1/3 + 1,97·10-7·Nd1/4 + 57,9·10-12·Nd1/2 (eV)

Pour InAs de type p

ΔEg = 8,34·10-9·Na1/3 + 2,91·10-7·Na1/4 + 4,53·10-12·Na1/2 (eV)

Les masses efficaces

Électrons :

La masse efficace d'électron contre la concentration d'électron
 

 

Pour la Γ-valléemΓ = 0.023mo
Nonparabolicity :
E (1+αE) = h2k2/(2mΓ)
α = 1,4 (eV-1)
Dans la masse efficace de L-vallée de la densité des étatsmL=0.29mo
Dans la masse efficace de X-vallée de la densité des étatsmX=0.64mo

Trous :

LourdMH = 0.41mo
Lumièremlp = 0.026mo
Bande de fente-mso = 0.16mo

La masse efficace de la densité des états système mv = 0.41mo

Donateurs et accepteurs

Énergies d'ionisation des donateurs peu profonds

≥ 0,001 (eV) : Se, S, Te, GE, SI, Sn, Cu

Énergies d'ionisation des accepteurs peu profonds, eV

SnGESICdZn
0,010,0140,020,0150,01

 

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PAM-XIAMEN est votre aller- l'endroit pour tout des gaufrettes, y compris des gaufrettes d'InAs, comme nous l'avions fait pendant presque 30 années ! Enquérez-vous nous aujourd'hui pour apprendre plus au sujet des gaufrettes que nous offrons et de la façon dont nous pouvons vous aider avec votre prochain projet. Notre équipe de groupe attend avec intérêt de fournir des produits de qualité et l'excellent service pour vous !

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