Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:1-10,000pcs
Conditions de paiement:T/T.
Capacité d'approvisionnement:10 000 gaufrettes/mois
Délai de livraison:5-50 jours ouvrables
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Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

Description de produit

PAM-XIAMEN offre la gaufrette de GaSb de semi-conducteur composé – antimoniure de gallium qui est développé par LEC (Czochralski encapsulé par liquide) en tant que catégorie epi-prête ou mécanique avec le type de n, le type de p ou semi-isolant dans l'orientation différente (111) ou (100).

L'antimoniure de gallium (GaSb) est une matière semi-conductrice du gallium et de l'antimoine de la famille d'III-V. Il a une constante de trellis d'environ 0,61 nanomètres. GaSb peut être employé pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes thermophotovoltaic.

Voici les spécifications de détail :

spécifications de gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 3 ″ (50.8mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 4 ″ (100mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 2 ″

ArticleCaractéristiques
DopantNon dopéZincTellurium
Type de conductionde type pde type pde type n
Diamètre de gaufrette2 ″
Orientation de gaufrette(100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette500±25um
Longueur plate primaire16±2mm
Longueur plate secondaire8±1mm
Concentration en transporteur(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilité600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<10um>
ARC<10um>
CHAÎNE<12um>
Inscription de lasersur demande
Finition de SufaceP/E, P/P
Epi prêtoui
PaquetConteneur ou cassette simple de gaufrette

spécifications de gaufrette de GaSb de 3 ″

ArticleCaractéristiques
Type de conductionde type pde type pde type n
DopantNon dopéZincTellurium
Diamètre de gaufrette3 ″
Orientation de gaufrette(100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette600±25um
Longueur plate primaire22±2mm
Longueur plate secondaire11±1mm
Concentration en transporteur(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilité600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<12um>
ARC<12um>
CHAÎNE<15um>
Inscription de lasersur demande
Finition de SufaceP/E, P/P
Epi prêtoui
PaquetConteneur ou cassette simple de gaufrette

spécifications de gaufrette de GaSb de 4 ″

ArticleCaractéristiques
DopantNon dopéZincTellurium
Type de conductionde type pde type pde type n
Diamètre de gaufrette4 ″
Orientation de gaufrette(100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette800±25um
Longueur plate primaire32.5±2.5mm
Longueur plate secondaire18±1mm
Concentration en transporteur(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilité600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<15um>
ARC<15um>
CHAÎNE<20um>
Inscription de lasersur demande
Finition de SufaceP/E, P/P
Epi prêtoui
PaquetConteneur ou cassette simple de gaufrette

1)″ 2 (50.8mm), gaufrette de GaSb de 3 ″ (76.2mm)

Orientation : (100) ±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 600±25
Type/dopant : P/undoped ; P/Si ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~2) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 600~700
Méthode de croissance : LA CZ
Polonais : SSP

2)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (100) ±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 600±25
Type/dopant : N/undoped ; P/Te
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

3)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) A±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

4)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) B±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 450±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

5)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) B 2deg.off
Épaisseur (μm) : 500±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

Produits relatifs :
Gaufrette d'InAs
Gaufrette d'InSb
Gaufrette d'INP
Gaufrette de GaAs
Gaufrette de GaSb
Gaufrette de Gap

L'antimoniure de gallium (GaSb) peut être fourni comme gaufrettes avec les finitions de comme-coupe, gravée l'eau-forte ou poli et est disponible dans un large éventail de concentration, de diamètre et d'épaisseur en transporteur.

Le matériel de GaSb présente les propriétés intéressantes pour les dispositifs thermophotovoltaic de (TPV) de jonction simple. GaSb : Le monocristal de Te développé avec Czochralski (Cz) ou méthodes modifiées du chralski de Czo- (MOIS-CZ) sont présentés et le problème de la homogénéité de Te sont discutés. Car la mobilité des porteuses est l'un des points clés pour le cristal en vrac, des mesures de Hall sont effectuées. Nous présentons ici quelques développements complémentaires basés sur le point de vue de traitement matériel : la cristallogénèse en vrac, la préparation de gaufrette, et gravure l'eau-forte de gaufrette. Des étapes suivantes après ces derniers sont liées au p/ aucune élaboration de jonction de r n/p. Quelques résultats obtenus pour différentes approches sur couche mince d'élaboration sont présentés. Ainsi du procédé de diffusion simple de phase vapeur ou du procédé liquide d'épitaxie de phase jusqu'au procédé organique de déposition en phase vapeur en métal nous rapportons une certaine spécificité matérielle.

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