gaufrette polie double par côté de 51mm Sapphire Substrates DSP

Number modèle:le côté du double 2inch a poli
Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:5 PCs
Conditions de paiement:T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement:20 000 PCs/mois
Délai de livraison:5-8 semaines
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Adresse: No.99 Tong Xi Road, ville de Caijia, secteur de Beibei, Chongqing, Chine
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Détails du produit

Le diamètre 51mm 2 pouces Sapphire Substrate Wafer Double Side a poli la gaufrette de DSP

 

Description

 

Al2O3 monocristal que (saphir, également connu sous le nom de pierres, saphir blancs) a de bonnes propriétés thermiques, excellentes caractéristiques électriques et propriétés diélectriques, et corrosion d'anti-produit chimique, il est hautes températures, conduction thermique, dureté élevée, bon transparent et chimiquement stable infrarouge. Très utilisé en substrat épitaxial infrarouge hautes températures de film de matériaux de fenêtre et de nitrure d'III-V et un grand choix de matériaux les besoins pour rencontrer le bleu croissant, la diode électroluminescente pourpre et blanche (LED) et de bleu laser (LD), société de cristal de branche se spécialisant dans la production du cristal de saphir poli de haute qualité et   les substrats épitaxiaux te fourniront beaucoup de substrat monocristallin de haute qualité et de petit prix.

 

Spécifications

 

ParamètreSpécifications
MatérielGrande pureté >99.995%
Diamètre51±0.1mm
Épaisseur300+10/-15μm
Crystal OrientationC-avion 0° au M-axe ±0.2°
C-avion 0° au l'Un-axe ±0.2°
Arc≤10μm
Chaîne≤15μm
TTV≤7μm
Rugosité de partie antérieure≤0.5nm
Rugosité d'arrière≤0.5nm
Bord de gaufretteType R
Arrondi≤0.05mm
Transparent410~780nm : ≥85%
RORMin≥200N
Harnais≥1450
AspectÉraflure : ≤0.1mm ≤2
Bulle : Dia≤0.1mm ≤3

 

Le côté de double de 2inch DSP a poli des substrats de saphir peut être fabriqué des cristaux de saphir développés par Kyropoulos optiques de haute qualité de catégorie.

le substrat épitaxial de saphir de monocristal de grande pureté convient au processus épitaxial direct, au processus de PSS, au processus d'ALN et d'autres méthodes épitaxiales. Il a les caractéristiques de la longueur d'onde uniforme, intense luminosité et petite norme nous pouvons accepter la personnalisation de produit pour les spécifications techniques, et produisons substrats de polissage simples/doubles de saphir avec différentes dimensions externes basées sur C (0001), a (11-20) et orientations en cristal de m (1100), avec l'entaille ou les orientations en cristal de bord droit.

 

 

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