Appareil de revêtement par pulvérisation sous vide à base de film à faible teneur en E / machine de revêtement par pulvérisation sous vide à base de rouleau

Nous sommes heureux de vous proposer notre revêtement à sputter à vide à rouleaux de la série MultiWeb pour répondre à vos exigences de dépôt multicouches.

Applications pour les revêtements à base de film à faible teneur en E:Il s'agit d'un document électronique, de circuits flexibles, de panneaux photovoltaïques, de bandes médicales, de RFID (identification par radiofréquence) et de films à faible intensité.

Films de dépôt
1Matériau de substrat: PET, PEN, PES, PI, PC, PA, films
2Épaisseur du substrat: 15 à 300 μm
3. Méthodes de dépôt: AC réactif pour SiO2 ((diélectrique); DC pulsé pour ITO (Métal & Conducteur)
4Le conducteur d'oxyde TCO: ITO, AZO, IZO...
5Le conducteur métallique:
6. film optique: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2...
7- Il y a des semi-conducteurs.
8- Isolateur: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx...
9Uniformité: ± 5% sur toute la toile

Le revêtement MultiWeb offre les caractéristiques clés suivantes:
A. Une chambre divisée en zones à pression multiple pour accueillir diverses sources de dépôt.
B. capacités de dépôt simultané à plusieurs sources dans une seule bande passante, pour revêtement multicouche.
C. La direction inversible de l'enroulement de la toile permet de déposer des couches illimitées sans rompre le vide.
D. Mécanismes de manipulation de la toile de précision avec guide de bord pour permettre plusieurs passages sans perte d'alignement (facultatif)
E. Système d'entraînement à tige inverse AC pour un contrôle précis de multiples vitesses de tige.
F. Systèmes de surveillance de l'épaisseur optique et/ou de la résistance en ligne, pour contrôler l'épaisseur et l'uniformité précises des dépôts (facultatif)
G. La chambre est construite en acier inoxydable SUS304L avec des composants à faible émission de gaz pour assurer un vide plus profond.
H. Pompage sous vide par une combinaison de pompe turbomoleculaire et de cryogéniques à basse température, pour fournir un vide propre sans contamination par l'humidité ou l'huile.

Bas - machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de film d'E, Web de R2R métallisant le système

Spécifications générales
Corps de chambre à vide: zones multi-pressions à chambre unique
Voiture mobile: Voiture à roues
Zone de dépôt: 2 X zone de pulvérisation (facultatif: 3 zones de pulvérisation)
Source de pulvérisation: 2 x source de pulvérisation à double cathode (facultatif: 3 sources de pulvérisation à double cathode)
Pré-traiteur de substrat: source ionique linéaire
Largeur de la toile: 1300 mm
Diamètre de l'enroulement: Φ600 mm maximum
Direction de l'enroulement: bidirectionnelle
Épaisseur du substrat: 15 à 300 μm
Vitesse de ligne Web:0.5 à 10 M/min
Tensions du réseau: 5,0PLI max 0,5PLI min
L'alignement de la toile: ±3 mm (un passage)
Pompes à haute pression: pompe à turbo
Pompes à vide brute: combinaison de pompe à sec et de souffleur
Pompes d'humidité: cryogéniques à froid poly
Contrôle de l'épaisseur de dépôt: surveillance (facultatif)
a: Transmission optique; b: Résistance au courant de tourbillon
Fonctionnement du système: fonctionnement d'un système informatique basé sur PLC

Veuillez nous contacter pour plus de détails, Royal Technology est honorée de vous fournir des solutions complètes de revêtement.

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