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Accueil / produits / Magnetron Sputtering Coating Machine / Machine de pulvérisation de magnétron de vide poussé, haute densité d'or d'Au et haut équipement de dépôt de l'uniformité PVD /

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Machine de pulvérisation de magnétron de vide poussé, haute densité d'or d'Au et haut équipement de dépôt de l'uniformité PVD
Machine de pulvérisation de magnétron de vide poussé, haute densité d'or d'Au et haut équipement de dépôt de l'uniformité PVD
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Caractéristiques principales taux de dépôt 1).High (~1-3 µm/h) ionisation 2).High, ayant pour résultat la bonne adhérence et les revêtements denses 3...
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