Système de pulvérisation de magnétons déséquilibrés à champ fermé

Les procédés de magnétron de champ déséquilibré et fermé présentent tous les avantages des magnétrons planaires.

• Bombardement d'ions supplémentaire entraînant des films adhésifs denses
• Assistance ionique et nettoyage du substrat possible
• Filtres tribologiques améliorés, résistants à l'usure et à la corrosion
• Modifiable à des films multicouches, superréticulaires, nanolaminant et nanocomposite
• Utilisation de matériaux plus faible
• Configuration de cathode plus complexe/coût

La pulvérisation de champ magnétron déséquilibré et fermé a révolutionné les propriétés possibles grâce aux procédés de pulvérisation de magnétron.résistance à la corrosion et les propriétés optiques comme cette technologie a étéDans le prochain article, nous passerons aux procédés de rotation et cylindriques de magnétrons et aux applications de films minces qui en résultent.

--- Au-dessus de l'ArctiqueLe projet de loi

La technologie royale a développé des cathodes de pulvérisation à haut rendement et à utilisation cible élevée, en particulier pour le pulvérisation de métaux rares et coûteux: Au Gold, Ta Tantalum, Ag argent dépôt de films métalliques.Le système de dépôt du film de haute uniformité a servi plusieurs industries comme les pièces électroniques, composants d'instruments médicaux nécessitant une grande uniformité de film, dépôt à plusieurs couches.

La machine RTSP1000 est une machine standardisée développée par Royal Technology.

Nettoyage et dépôt assisté du plasma de source d'ions linéaire: s'il vous plaîtCliquez icipour regarder une vidéo

Veuillez nous contacter pour plus de détails, Royal Technology est honorée de vous fournir des solutions complètes de revêtement.