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Caractéristiques principales taux de dépôt 1).High (~1-3 µm/h) ionisation 2).High, ayant pour résultat la bonne adhérence et les revêtement...
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L'équipement de revêtement à pulvérisation magnétronique sous vide, intégrant les technologies de pulvérisation magnétronique et de revêtement ioniq......
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Chaîne de production de revêtement en verre de pulvérisation de magnétron Le procédé de protection de pulvérisation de magnétron a pu être appliqué e......
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