Brève introduction de processeur de plat de picoseconde :
Particulièrement utilisé pour développer des plats de picoseconde. Le processus fonctionnant entier contient quatre étapes : - Lavant - coller se développant - cuisson/séchage.
Les spécifications de la machine :
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Modèle
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SL-90P
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SL-105P
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SL-120P
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Matériel
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plat positif et négatif de picoseconde
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Capacité
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400-1400mm/min
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Largeur de plat
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900mm
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1050mm
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1200mm
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Profondeur de plat
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0.15-0.4mm
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Contenu de réservoir, réalisateur
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24L
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32L
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40L
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Contenu de réservoir, lavage
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11L
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15L
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18L
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La température se développante
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18-40 degré C (le système de refroidissement est facultatif)
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La température de séchage
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35-55 degré C
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Temps se développant
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15-40sec (de l'admission du plat au débouché du plat)
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Source d'eau
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eau du robinet, pression d'eau minimale 1bar/15psi
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Consommation d'eau
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eau du robinet 7L/min
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Eau en circulation
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200ml par mètre carré
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Diamètre de coller le rouleau
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40mm
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Remplissage se développant
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0-250ml par mètre carré
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Temps d'échauffement se développant
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de 18 à 40 degrés C dans 30min
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Ajustement de niveau
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réglable
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Alimentation d'énergie
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monophasé de 50-60Hz 220V
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Puissance
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3KW
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Chaîne de fluctuation de tension
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à moins de 10%
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Poids brut
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300kg
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400kg
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500kg
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Poids net
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235kg
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350kg
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420kg
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PackingSize (millimètre)
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1600×1500×550
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1800×1700×750
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2000×1950×950
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Note : Les modèles spéciaux sont des clients travaillés.