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Index principal de paramètre :
1. équipement : chambre de dépôt, système de pompage moléculaire, électrodes supérieures et inférieures, système de chemin de gaz, alimentation d'énergie et contrôle de température et système de contrôle d'équipement
2. chambre de dépôt : Φ350XH350mm
3. électrode supérieure : la prise uniforme de couche multi, taille est Φ150mm
4. électrode : chauffage rotatoire, température ambiante -600℃ réglable, la température ≤±3℃, le sizeΦ 100mm
5.RF puissance 500W, équipée du dispositif assorti automatique
6. entrée d'air de travaux de contrôle de mètre d'écoulement de la masse
7. le système de contrôle adopte le contrôle de l'écran tactile +PLC