
Ga2O3 vise
4N Ø100×8mm >80%
4N Φ50.8mm ; Φ76.2mm ; Φ101.6mm
Poudre : 5N 2-5μm 50g ; 100g ; 500g ; 1kg
Avantage
1. le contenu des éléments d'impureté est très bas
2. la bonne conductivité électrique, densité de produit est bonne
3. la préparation est habituellement faite par le raffinage chimique, le raffinage d'électrolyse, le raffinage d'extraction, etc.
Application :
Matériel de revêtement de pulvérisation de magnétron ;
Emballage :
Emballage sous vide/emballage neutre de vide/emballage spécial de renfort d'emballage
Processus de fabrication :
Raffinage chimique, électroraffinage, raffinage d'extraction, etc.
Instrument applicable
Divers types d'équipement de pulvérisation de magnétron
Date de la livraison
Le matériel d'une seule pièce a livré d'ici 1 semaines, matériel en lots la livraison de 7 à 10 jours ouvrables ;
MOQ
cible : poudre 1pc': 100g