Le tamis rotatoire MachinePXZS de vibro dactylographient la dimension de alimentation <75mm de mouvement d'échange
Introduction
L'écran rotatoire est conçu pour fournir le tamisage précis et précis, il adopte le mécanisme excentrique qui conduit le matériel sur la surface d'écran pour faire le mouvement de échange rotatoire uniforme d'oscillation, les matériaux sont écartés et stratifiés sur la surface pleine page, puis le mouvement d'échange rotatoire change graduellement en un mouvement elliptique au centre qui est bon pour le tamisage matériel, un mouvement à ligne directe à l'extrémité de décharge, la voie de mouvement matériel devient écoulement des matières court et puis hors du débouché. Le tamis rotatoire est très utilisé dans le produit chimique, l'engrais, métallurgique, ceramsite, matériaux réfractaires, grain, nourriture, abrasifs, exploitation et d'autres industries dans le processus de classement par taille du criblage précis matériel.
Avantages et caractéristiques
les composants 1.All sont facilement accessibles et démontables.
2.No vibration verticale, une plus longue durée de maille.
la couche 3.Each est installée avec une installation antiblocage et de nettoyage.
l'espace libre 4.Lower permet l'opération dans des secteurs confinés.
rendements de produit 5.More aux mêmes cadences de fabrication.
consommation d'énergie 6.Low, une efficacité plus élevée de criblage.
Application
1. Principalement utilisé pour examiner, filtrer, évaluer et enlever l'impureté pour toutes sortes de poudre, particule, et liquide.
2. principalement matériaux appropriés : poudre et particule chimique et médicale, revêtement, colorant, cosmétique, graisse, résine, sauce en céramique, boue, chaux vive, poudre de ignifugation, poudre de métallurgie, amidon, farine, farine de riz, poudre de carbone, poudre de graphite, poudre de manganèse, eaux d'égout, huile usagée, fumier, etc.
Paramètres techniques
| Modèle | Surface d'écran | Couche non. | Dimension de alimentation | Amplitude (millimètres) | Fréquence (r/min) | Puissance (kilowatts) |
| largeur | longueur |
| PXZS1224 | 1200mm | 2400mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1230 | 1200mm | 3000mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1236 | 1200mm | 3600mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1524 | 1500mm | 2400mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1530 | 1500mm | 3000mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1536 | 1500mm | 3600mm | 1-4 | <50mm | 75-90 | 1450 | 5,5 |
| PXZS1830 | 1800mm | 3000mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 7,5 |
| PXZS1836 | 1800mm | 3600mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 7,5 |
| PXZS1840 | 1800mm | 4000mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 7,5 |
| PXZS2036 | 2000mm | 3600mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 7,5 |
| PXZS2040 | 2000mm | 4000mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 11 |
| PXZS2050 | 2000mm | 5000mm | 1-4 | <75mm | 75-90 | 750 | 11 |
Note : Le paramètre ci-dessus est juste pour la référence, il peut être adapté aux besoins du client par condition différente.
États de sélection
| Matériel de ♦ à traiter : | Couche d'écran de ♦/nombre de plate-forme/tamis : |
| Le ♦ masse densité : t/m3 | Grosseur de maille de ♦ de chaque couche d'écran/plate-forme/tamis : millimètre |
| La température matérielle de ♦ : ºC | Équipement ascendant de ♦ (ce qu'un peu l'équipement est utilisé pour alimenter au matériel) : |
| Teneur en eau de ♦ : % | Équipement en aval de ♦ (ce qui un peu l'équipement est utilisé pour décharger le matériel) : |
| Le matériel de ♦ est corrosif ou pas : (Oui ou non) | Commande de ♦ : (Marque domestique ou internationale ou marque indiquée ?) |
| Le matériel de ♦ est collant ou pas : (Oui ou non) | Matériau de construction de ♦ : (Acier au carbone, SS304, SS316L ou toutes conditions spéciales) |
| Taille de granule de ♦ de matériel : millimètre | Environnement de travail de ♦ : (d'intérieur ou extérieur) |
| Taille maximale de granule de ♦ : millimètre | La température d'environnement de travail de ♦ : °C |
| Pourcentage de distribution de particules de ♦ : | Alimentation d'énergie fonctionnante de ♦ : 3 phase V hertz |
| Capacité de manipulation de ♦ : t/h | Quantité de ♦ : ensembles |
