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Cible rotative de pulvérisation de zirconium pour la haute densité de procédé de protection de PVD

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Pays / Région:china
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Cible rotative de pulvérisation de zirconium pour la haute densité de procédé de protection de PVD

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Numéro de type :Cible de pulvérisation de zirconium
Point d'origine :La Chine
Quantité d'ordre minimum :1 kg
Conditions de paiement :L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement :100000kgs/M
Délai de livraison :10~25 jours de travail
Détails d'emballage :CAISSE DE CONTRE-PLAQUÉ
Matériel :Zirconium Zr702
Processus :HIP, CIP
Taille :Adapté aux besoins du client
application :Revêtement de PVD
Densité :6.506g/cm3
Forme :Rond, plat, cible de pulvérisation de tube
Grosseur du grain :Grosseur du grain fin
Pureté :99,5%, 99,95%
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Cible rotative de pulvérisation de zirconium

Cible rotative de pulvérisation de zirconium, cible rotative de zirconium, cible de pulvérisation de zirconium, cible rotatoire de pulvérisation de zirconium, cible tournante de pulvérisation de zirconium.

 

 

Description

PORTER MALHEUR À le foyer de société sur la cible de pulvérisation (la cible rotative de pulvérisation, cible planaire de pulvérisation, pulvérisent la cible rotatoire de cible de pulvérisation, de pulvérisation en métal noble et le matériel d'évaporation. Incluidng matériel (titane de Ti, TiAl, TiSi, TiZr, tungstène de zirconium de Zr, de Cr Chrome, de MOIS, de W, WTi, Cu, Ni, merci, NOTA:).

 

  • Pressing chaud
  • Pressing isostatique chaud (HIP)
  • Pressing isostatique froid (CIP)
  • Nettoyez à l'aspirateur l'agglomération
  • Fonte d'induction
  • Nettoyez à l'aspirateur la fonte et le moulage
  • Arc fusion
  • Fonte d'Électron-poutre
  • Projection par plasma
  • Co-précipitation

 

PORTER MALHEUR À a développé une ligne complète des cibles rotatoires de pulvérisation de cathode. Les matériaux sont ou coulés en continu, expulsé, HIP'ed ou le plasma a pulvérisé pour fournir des progrès technologiques dans la conception rotatoire. En outre, des profils uniques peuvent être développés pour que des applications spécifiques fournissent des cibles pour une meilleure caractérisation d'usage, une plus longue vie, des caractéristiques physiques uniques ou des propriétés métallurgiques changées.

Cible rotative de pulvérisation de zirconium, cible rotative de zirconium, cible de pulvérisation de zirconium, cible rotatoire de pulvérisation de zirconium, cible tournante de pulvérisation de zirconium.

 

Catégories : R60702, 99.2%min
  Pureté : 99,5%
  Pureté : 99,95% à haute fréquence<300ppm or="" Hf="">
   
Forme : Autour de la forme, forme de tube et forme de plat.

Cible rotative de pulvérisation de zirconium pour la haute densité de procédé de protection de PVD 

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