JINXING MATECH CO LTD

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Le Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVD

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Pays / Région:china
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Le Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVD

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Number modèle :Cible titanique de pulvérisation
Point d'origine :La Chine
Quantité d'ordre minimum :1kg
Conditions de paiement :L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement :100000kgs/M
Délai de livraison :10~25 jours de travail
Détails de empaquetage :caisse de contreplaqué
Matériel :Cibles de pulvérisation de Ti
Processus :CIP, pressing de HIP
Taille :Adapté aux besoins du client
Application :procédé de protection de pvd
Forme :Rond, plat, tube
Grosseur du grain :Grosseur du grain fin, bonne densité
Pureté :99,5%, 99。95%
Densité :4.52g/cm3
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Le Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVD

Le Ti pulvérisant vise l'information :

Il a un point de fusion de 1,660°C, une densité de 4,5 g/cc, et une pression de vapeur de 10-4 torr à 1,453°C. C'est un matériel vigoureux qui est facilement fabriqué quand la chaleur est appliquée. Ses caractéristiques fortes et légères et excellente résistance à la corrosion la rendre idéale pour des coques de revêtement d'océan, moteurs d'avions, et bijoux de concepteur. Le titane est biocompatible ainsi il peut trouver dans les outils et des implants chirurgicaux. Le titane est généralement évaporé dans le vide aux fins de l'usage et décoratif, du semi-conducteur, et des revêtements optiques.

Les cibles adaptées aux besoins du client de pulvérisation de Ti sont disponibles sur demande. Nous pouvons coutume faire les cibles de pulvérisation de Ti pour rencontrer les exigences spécifiques et les dessins du client.

La pulvérisation titanique vise (la cible de Ti)

· Matériel : Grande pureté (99,5%, 99,995%), catégorie 1, catégorie 2, TiAl6V4 d'ASTM d'ASTM

· Norme : ASTM B 337/B338, ASTM B385-91, ASTM381, OIN 5832/2, JIS H4650, vacarme 17851

· Forme : Disques (rectangle <350mm>de diamètre 1mm (longueur 1800mm, tube de largeur 400mm Thickness>1mm (cible de Rotory, OD : 20mm~160mm, épaisseur : 2-20mm, longueur : OD>160 fait sur commande, épaisseur >8mm, longueur <200>

· Application : Nitrure déposée de film décorent aussi la couche mince, film déposé oxydé à TiO2 comme séparateur de faisceau ou isolateur

Image de cibles de pulvérisation de Ti :

Le Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVDLe Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVD

Le Ti pulvérisant vise l'arc rotatif, rotatoire, cylindrique, planaire, cathodique, revêtement de PVD

 

Cible titanique de pulvérisation, cible titanique 99,95% de pulvérisation

soyez disponible dans des tailles variables

 

D100x40mm, D65x6.35mm etc.

 

Nom de produit Élément Purirty ℃ de point de fusion Densité (g/cc) Formes disponibles
Haut ruban pur AG 4N-5N 961 10,49 Fil, feuille, particule, cible
Haut aluminium pur Al 4N-6N 660 2,7 Fil, feuille, particule, cible
Haut or pur Au 4N-5N 1062 19,32 Fil, feuille, particule, cible
Haut bismuth pur Bi 5N-6N 271,4 9,79 Particule, cible
Haut cadmium pur Cd 5N-7N 321,1 8,65 Particule, cible
Haut cobalt pur Co 4N 1495 8,9 Particule, cible
Haut chrome pur Cr 3N-4N 1890 7,2 Particule, cible
Haut cuivre pur Cu 3N-6N 1083 8,92 Fil, feuille, particule, cible
Haut Ferro pur Fe 3N-4N 1535 7,86 Particule, cible
Haut germanium pur GE 5N-6N 937 5,35 Particule, cible
Haut indium pur Dans 5N-6N 157 7,3 Particule, cible
Haut magnésium pur Magnésium 4N 651 1,74 Fil, particule, cible
Haut magnésium pur Manganèse 3N 1244 7,2 Fil, particule, cible
Haut molybdène pur MOIS 4N 2617 10,22 Fil, feuille, particule, cible
Haut niobium pur NOTA: 4N 2468 8,55 Fil, cible
Haut nickel pur Ni 3N-5N 1453 8,9 Fil, feuille, particule, cible
Avance pure élevée Pb 4N-6N 328 11,34 Particule, cible
Haut palladium pur Palladium 3N-4N 1555 12,02 Fil, feuille, particule, cible
Haut platine pur Pinte 3N-4N 1774 21,5 Fil, feuille, particule, cible
Haut silicium pur SI 5N-7N 1410 2,42 Particule, cible
Haut étain pur Sn 5N-6N 232 7,75 Fil, particule, cible
Haut tantale pur Merci 4N 2996 16,6 Fil, feuille, particule, cible
Haut tellurium pur Te 4N-6N 425 6,25 Particule, cible
Haut titane pur Ti 4N-5N 1675 4,5 Fil, particule, cible
Haut tungstène pur W 3N5-4N 3410 19,3 Fil, feuille, particule, cible
Haut zinc pur Zn 4N-6N 419 7,14 Fil, feuille, particule, cible
Haut zirconium pur Zr 4N 1477 6,4 Fil, feuille, particule, cible

 

 

 

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