Shenzhen Meiri Purification Technology Co., Ltd.
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BFU Mega-Size Bottom-Access FFU ∙ Système d'air de salle blanche ultra-haute capacité ∙ Filtration de qualité semi-conducteur et aucun temps d'arrêt
Le BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 représente une percée dans le traitement de l'air dans les salles blanches à grande échelle, spécialement conçu pour les gigafabs de semi-conducteurs, la fabrication de LCD,et les installations de production de vaccins nécessitant des environnements ininterrompus de classe ISO 1-3Avec la plus grande surface de couverture d'un seul appareil de l'industrie (1,48 m2), cette FFU offre un débit d'air de 2 200 m3/h tout en maintenant une variation de vitesse exceptionnelle de <0,2% dans les zones ultra-propres.
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Nom du paramètre |
Valeur |
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Matériel |
Boîte: plaque d'aluminium galvanisée; diffuseur: plaque froide peinte au four |
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Système de ventilation |
Moteur MRJH + roue en fer |
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Filtration |
Filtre HEPA à cadre en aluminium (1170×570×90), efficacité: 99,99% @0,3 μm (H13) |
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Vitesse de l'air |
00,45 ∼ 0,75 m/s ± 3% (réglable à trois vitesses) |
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Volume d'air nominale |
2000 m3/h |
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Niveau de bruit |
4655 dB ±5 dB (essai statique à 1,5 m sous le filtre) |
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Énergie |
220V/50Hz, puissance nominale: 170W200W ±5W |
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Connexion de la bride |
Optionnellement D=350 mm |
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Taille d'ouverture |
Plaque d'acier de couleur: 1225 × 625 mm |
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taille |
Pour les appareils à commande numérique: |
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Certifications |
ISO (en anglais) Le numéro d'immatriculation,Pour les produits de base,Pour la CE |
| Paramètre ou caractéristique | Notre produit | Moyenne du marché | Les avantages |
|---|---|---|---|
| H13 Nombre de plis du filtre | 315 plis | 260 plis | Une plus grande surface de filtration, améliorant l'efficacité de la filtration et la capacité de retenue des poussières. |
| Filtre HEPA | - | - | L'épaisseur accrue du milieu de filtration améliore l'efficacité et la durée de vie de la filtration. |
| Hauteur du pli | 50 mm | 38 mm | Un milieu de filtration plus épais améliore les performances et la longévité de la filtration. |
| Marque de mailles de protection | Marque 9N de haute qualité | Marques génériques | Un soutien et une protection supérieurs, assurant la stabilité de la structure. |
| Épaisseur du cadre | 10,0 mm | 0.7 mm | Un cadre plus solide pour une durabilité accrue et une réduction des risques de déformation. |
| Processus de mise en pot et matériaux | 50 unités par lot, adhésif Fuming AB, fabriqué avec des machines à poterie de 400 000 CNY | Procédures standardisées | Une étanchéité uniforme empêche les fuites et garantit une filtration fiable. |
| Vitesse moyenne du débit d'air | 00,8 m/s | 00,65 m/s | Une plus grande capacité de débit d'air avec une moindre résistance, augmentant l'efficacité du système. |
| Moteur | À l'eau | Non étanches | Amélioration de la sécurité et de la fiabilité dans divers environnements. |
Principales caractéristiques
1.Construction durable: boîte en aluminium galvanisé avec diffuseur de peinture cuite assure une résistance à la corrosion et une longue durée de vie.
2.Système de ventilation haute performance: le moteur MRJH avec une roue en fer robuste offre un flux d'air stable et une durabilité accrue.
3.Contrôle précis du débit d'air: vitesse du vent réglable à trois vitesses (0,45 à 0,75 m/s ± 3%) pour des besoins flexibles en salle blanche.
4.Filtrage H13: le filtre HEPA sans partition (1170×570×90) atteint une efficacité de 99,99% à 0,3 μm de particules.
5.Flux d'air de grande capacité: volume d'air nominal de 2000 m3/h pour la ventilation des salles blanches à grande échelle.
6.Conception détachable en bas: simplifie l'entretien et le remplacement du filtre.
7.Compatibilité avec les grandes brides: prend en charge les connexions de brides (D=350 mm) pour l'intégration de systèmes modulaires.
8.Faible bruit: conçu pour un fonctionnement de 46 ‰ 55 dB (± 5 dB) à 1,5 m sous le filtre.
Scénarios d'application
Purification de l'air des salles blanches dans les installations pharmaceutiques, électroniques et biotechnologiques.
Zones de fabrication nécessitant une filtration H13 certifiée ISO avec un débit d'air à volume élevé (2000 m3/h).
Les installations nécessitant une installation modulaire à grande échelle (compatibilité avec une bride de 350 mm) et une maintenance facile.
Questions fréquentes:
1Q: En quoi la conception de méga-taille 1220X1220X450mm profite-t-elle aux gigafabs semi-conducteurs par rapport aux FFU standard?
R: Notre FFU de grande taille offre trois avantages révolutionnaires pour les usines de plaquettes de 300 mm:
Réduction de 70% des pénétrations dans le plafond (1 unité remplace 4 FFU standard), réduisant au minimum les risques de contamination
Uniformité inégalée du débit d'air (< ± 0,15% de variation de vitesse) sur l'ensemble des compartiments de photolithographie
Les rails de service intégrés permettent des changements de filtre robotisés sans rompre les protocoles de salle blanche (la classe ISO 1 est maintenue tout au long de la maintenance)
2Q: Qu'est-ce qui différencie vraiment votre "maintien à zéro temps d'arrêt" des autres FFU à accès inférieur?
R: Le système combine trois technologies brevetées:
Le NanoGasketTM auto-étanché maintient la pression négative pendant les remplacements de filtres
Robotique guidée de précision pour effectuer des changements H14 ULPA en 110 secondes (contre plus de 30 minutes manuelles)
Les compteurs de particules intelligents valident automatiquement l'intégrité du filtre après le service, éliminant ainsi les temps d'arrêt traditionnels de 4 heures de requalification
3Q: Comment la filtration de qualité semi-conducteur protège-t-elle spécifiquement les processus de lithographie EUV?
R: Notre solution cible les trois plus grandes menaces de contamination de la lithographie:
Contrôle AMC: la couche de carbone actif élimine > 99% des contaminants moléculaires dans l'air
Capture de nanoparticules: 99,9995% d'efficacité sur les particules de 0,12 μm (critique pour le rendement des nœuds de 3 nm)
Élimination des vibrations: la lévitation magnétique permet une vibration de 0,03 μm/s - 10 fois meilleure que les exigences de l'ASML