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Semi-isolant, substrat de GaAs, 2", catégorie mécanique
PAM-XIAMEN développe et fabrique le cristal et la gaufrette d'arséniure de substrat-gallium de semi-conducteur composé. Nous a employé la technologie avancée de cristallogénèse, le gel vertical de gradient (VGF) et la technologie transformatrice de gaufrette d'arséniure de gallium (GaAs). Les propriétés électriques exigées sont obtenues en ajoutant des dopants tels que le silicium ou le zinc. Le résultat est les semi-conducteurs de type n ou de type p de haute résistance (>10^7 ohm.cm) ou de la bas-résistance (<10 - 2 ohm.cm). Les surfaces de gaufrette sont généralement epi-prêtes (extrêmement - basse contamination) c.-à-d. leur qualité convient pour l'usage direct dans des processus épitaxiaux.
Gaufrettes d'arséniure de gallium (GaAs), semi-isolantes pour des applications de la microélectronique
Article | Caractéristiques | Remarques |
Type de conduction | Isolation | |
Méthode de croissance | VGF | |
Dopant | Non dopé | |
Gaufrette Diamter | 2, pouce | Lingot disponible |
Orientation en cristal | (100) +/- 0.5° | |
DE | EJ, les USA ou entaille | |
Concentration en transporteur | Non-déterminé | |
Résistivité à la droite | >1E7 Ohm.cm | |
Mobilité | >5000 cm2/V.sec | |
Densité de mine gravure à l'eau forte | <8000 /cm2 | |
Inscription de laser | sur demande | |
Finition extérieure | P/P | |
Épaisseur | 350~675um | |
Épitaxie prête | Oui | |
Paquet | Conteneur ou cassette simple de gaufrette |
Propriétés de cristal de GaAs
Propriétés | GaAs |
Atoms/cm3 | 4,42 x 1022 |
Poids atomique | 144,63 |
Champ de panne | approximativement 4 x 105 |
Structure cristalline | Zincblende |
Densité (g/cm3) | 5,32 |
Constante diélectrique | 13,1 |
Densité efficace des états dans la bande de conduction, OR (cm-3) | 4,7 x 1017 |
Densité efficace des états dans la bande de valence, nanovolt (cm-3) | 7,0 x 1018 |
Affinité d'électron (v) | 4,07 |
Domaine d'énergie à 300K (eV) | 1,424 |
Concentration en transporteur intrinsèque (cm-3) | 1,79 x 106 |
Longueur de Debye intrinsèque (microns) | 2250 |
Résistivité intrinsèque (ohm-cm) | 108 |
Constante de trellis (angströms) | 5,6533 |
Coefficient linéaire de dilatation thermique, | 6,86 x 10-6 |
ΔL/L/ΔT (1 deg. C) | |
Point de fusion (deg. C) | 1238 |
Vie de transporteur de minorité (s) | approximativement 10-8 |
Mobilité (dérive) | 8500 |
(cm2 de /V-s) | |
µn, électrons | |
Mobilité (dérive) | 400 |
(cm2 de /V-s) | |
µp, trous | |
Énergie optique (eV) de phonon | 0,035 |
Parcours moyen de phonon libre (angströms) | 58 |
La chaleur spécifique | 0,35 |
(J/g-deg C) | |
Conduction thermique à 300 K | 0,46 |
(W/cm-degC) | |
Diffusivité thermique (cm2/sec) | 0,24 |
Pression de vapeur (Pa) | 100 à 1050 deg. C ; |
1 à 900 deg. C |
Longueur d'onde | Index |
(µm) | |
2,6 | 3,3239 |
2,8 | 3,3204 |
3 | 3,3169 |
3,2 | 3,3149 |
3,4 | 3,3129 |
3,6 | 3,3109 |
3,8 | 3,3089 |
4 | 3,3069 |
4,2 | 3,3057 |
4,4 | 3,3045 |
4,6 | 3,3034 |
4,8 | 3,3022 |
5 | 3,301 |
5,2 | 3,3001 |
5,4 | 3,2991 |
5,6 | 3,2982 |
5,8 | 3,2972 |
6 | 3,2963 |
6,2 | 3,2955 |
6,4 | 3,2947 |
6,6 | 3,2939 |
6,8 | 3,2931 |
7 | 3,2923 |
7,2 | 3,2914 |
7,4 | 3,2905 |
7,6 | 3,2896 |
7,8 | 3,2887 |
8 | 3,2878 |
8,2 | 3,2868 |
8,4 | 3,2859 |
8,6 | 3,2849 |
8,8 | 3,284 |
9 | 3,283 |
9,2 | 3,2818 |
9,4 | 3,2806 |
9,6 | 3,2794 |
9,8 | 3,2782 |
10 | 3,277 |
10,2 | 3,2761 |
10,4 | 3,2752 |
10,6 | 3,2743 |
10,8 | 3,2734 |
11 | 3,2725 |
11,2 | 3,2713 |
11,4 | 3,2701 |
11,6 | 3,269 |
11,8 | 3,2678 |
12 | 3,2666 |
12,2 | 3,2651 |
12,4 | 3,2635 |
12,6 | 3,262 |
12,8 | 3,2604 |
13 | 3,2589 |
13,2 | 3,2573 |
13,4 | 3,2557 |
13,6 | 3,2541 |
Quelle est gaufrette de GaAs ?
L'arséniure de gallium (GaAs) est un composé des éléments gallium et arsenic. C'est un semi-conducteur direct d'espace de bande d'III-V avec une structure cristalline de blende de zinc.
La gaufrette de GaAs est un matériel important de semiconducor. Elle appartient pour grouper le semi-conducteur de composé d'III-V. C'est un type de sphalérite structure de trellis avec une constante de trellis de 5.65x 10-10m, un point de fusion du ℃ 1237 et un espace de bande de 1,4 EV. L'arséniure de gallium peut être transformé en isoler semi les matériaux de haute résistance avec la résistivité plus haut que le silicium et le germanium par plus de trois ordres de grandeur, qui peuvent être employés pour faire le substrat de circuit intégré, le détecteur infrarouge, le détecteur de photons de γ, etc. Puisque sa mobilité des électrons est 5-6 chronomètre plus grand que cela du silicium, elle a été très utilisée dans des dispositifs à micro-ondes et des circuits numériques ultra-rapides. Le dispositif de semi-conducteur fait en GaAs a les avantages de la tenue à haute fréquence, à hautes températures et basse à température, à faible bruit et forte aux rayonnements. En outre, il peut également être employé pour faire des dispositifs d'effet en vrac.
Module de compressibilité | 7,53·cm2 de 1011 dyne |
Point de fusion | °C 1240 |
La chaleur spécifique | 0,33 J g-1°C -1 |
Conduction thermique | 0,55 °C -1 de W cm-1 |
Diffusivité thermique | 0.31cm2s-1 |
Dilatation thermique, linéaire | 5,73·10-6 °C -1 |
![]() | La dépendance de la température de la conduction thermique échantillon de type n, no (cm-3) : 1. 1016 ; 2. 1,4·1016 ; 3. 1018 ; échantillon de type p, PO (cm-3) : 4. 3·1018 ; 5. 1,2·1019. |
![]() | La dépendance de la température de la conduction thermique (pour la haute température) échantillon de type n, no (cm-3) : 1. 7·1015 ; 2. 5·1016 ; 3. 4·1017 ; 4. 8·1018 ; échantillon de type p, PO (cm-3) : 5. 6·1019. |
![]() | La dépendance de la température de la chaleur spécifique à la pression constante Ccl= 3kbN = 0,345 J g-1°C -1. N est le nombre d'atomes dans 1 og GaAs de g. Ligne tirée : Cp= (4π2Ccl/5θo3)·T3 pour le θo= 345 K. |
![]() | La dépendance de la température du α linéaire de coefficient d'expansion |
Point de fusion | Tm=1513 K |
Pour 0 < P < 45 kbar | Tm= 1513 - 3.5P (P dans kbar) |
Pression de vapeur saturée | (en Pascal) |
K 1173 | 1 |
K 1323 | 100 |
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