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PAM-XIAMEN offre la gaufrette d'INP de semi-conducteur composé - phosphure d'indium qui est développé par LEC (Czochralski encapsulé par liquide) ou VGF (gel vertical de gradient) en tant que catégorie epi-prête ou mécanique avec le type de n, le type de p ou semi-isolant dans l'orientation différente (111) ou (100).
Le phosphure d'indium (InP) est un semi-conducteur binaire composé d'indium et de phosphore. Il a (« blende de zinc ») une structure cristalline cubique face au centre, identique à celle de la GaAs et à la plupart des semi-conducteurs d'III-V. Le phosphure d'indium peut être préparé à partir de la réaction de l'iodure de phosphore blanc et d'indium [clarification requise] à 400 °C., [5] également par la combinaison directe des éléments épurés à la haute température et à la pression, ou par décomposition thermique d'un mélange d'un composé et d'un phosphure d'indium de trialkyl. L'INP est utilisé dans l'électronique de haute puissance et à haute fréquence [citation requise] en raison de sa vitesse supérieure d'électron en ce qui concerne les semi-conducteurs plus communs silicium et l'arséniure de gallium.
Article | Caractéristiques | |||
Dopant | de type n | de type n | de type p | de type SI |
Type de conduction | Non dopé | Soufre | Zinc | lron |
Diamètre de gaufrette | 2" | |||
Orientation de gaufrette | (100) ±0.5° | |||
Épaisseur de gaufrette | 350±25um | |||
Longueur plate primaire | 16±2mm | |||
Longueur plate secondaire | 8±1mm | |||
Concentration en transporteur | 3x1016cm-3 | (0.8-6) x1018cm-3 | (0.6-6) x1018cm-3 | NON-DÉTERMINÉ |
Mobilité | (3.5-4) x103cm2/V.s | (1.5-3.5) x103cm2/V.s | 50-70x103cm2/V.s | >1000cm2/V.s |
Résistivité | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ |
EPD | <1000cm>-2 | <500cm>-2 | <1x10>3cm2 | <5x10>3cm2 |
TTV | <10um> | |||
ARC | <10um> | |||
CHAÎNE | <12um> | |||
Inscription de laser | sur demande | |||
Finition de Suface | P/E, P/P | |||
Epi prêt | oui | |||
Paquet | Conteneur ou cassette simple de gaufrette |
3" spécifications de gaufrette d'INP
Article | Caractéristiques | |||
Dopant | de type n | de type n | de type p | de type SI |
Type de conduction | Non dopé | Soufre | Zinc | lron |
Diamètre de gaufrette | 3" | |||
Orientation de gaufrette | (100) ±0.5° | |||
Épaisseur de gaufrette | 600±25um | |||
Longueur plate primaire | 16±2mm | |||
Longueur plate secondaire | 8±1mm | |||
Concentration en transporteur | ≤3x1016cm-3 | (0.8-6) x1018cm-3 | (0.6-6) x1018cm-3 | NON-DÉTERMINÉ |
Mobilité | (3.5-4) x103cm2/V.s | (1.5-3.5) x103cm2/V.s | 50-70x103cm2/V.s | >1000cm2/V.s |
Résistivité | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ |
EPD | <1000cm>-2 | <500cm>-2 | <1x10>3cm2 | <5x10>3cm2 |
TTV | <12um> | |||
ARC | <12um> | |||
CHAÎNE | <15um> | |||
Inscription de laser | sur demande | |||
Finition de Suface | P/E, P/P | |||
Epi prêt | oui | |||
Paquet | Conteneur ou cassette simple de gaufrette |
Article | Caractéristiques | |||
Dopant | de type n | de type n | de type p | de type SI |
Type de conduction | Non dopé | Soufre | Zinc | lron |
Diamètre de gaufrette | 4" | |||
Orientation de gaufrette | (100) ±0.5° | |||
Épaisseur de gaufrette | 600±25um | |||
Longueur plate primaire | 16±2mm | |||
Longueur plate secondaire | 8±1mm | |||
Concentration en transporteur | ≤3x1016cm-3 | (0.8-6) x1018cm-3 | (0.6-6) x1018cm-3 | NON-DÉTERMINÉ |
Mobilité | (3.5-4) x103cm2/V.s | (1.5-3.5) x103cm2/V.s | 50-70x103cm2/V.s | >1000cm2/V.s |
Résistivité | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ | NON-DÉTERMINÉ |
EPD | <1000cm>-2 | <500cm>-2 | <1x10>3cm2 | <5x10>3cm2 |
TTV | <15um> | |||
ARC | <15um> | |||
CHAÎNE | <15um> | |||
Inscription de laser | sur demande | |||
Finition de Suface | P/E, P/P | |||
Epi prêt | oui | |||
Paquet | Conteneur ou cassette simple de gaufrette |