XIAMEN POWERWAY A AVANCÉ CIE. MATÉRIELLE, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

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Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

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Ville:xiamen
Province / État:fujian
Pays / Région:china
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Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

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Point d'origine :La Chine
Quantité d'ordre minimum :1-10,000pcs
Conditions de paiement :T/T.
Capacité d'approvisionnement :10 000 gaufrettes/mois
Délai de livraison :5-50 jours ouvrables
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Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

Description de produit

PAM-XIAMEN offre la gaufrette de GaSb de semi-conducteur composé – antimoniure de gallium qui est développé par LEC (Czochralski encapsulé par liquide) en tant que catégorie epi-prête ou mécanique avec le type de n, le type de p ou semi-isolant dans l'orientation différente (111) ou (100).

L'antimoniure de gallium (GaSb) est une matière semi-conductrice du gallium et de l'antimoine de la famille d'III-V. Il a une constante de trellis d'environ 0,61 nanomètres. GaSb peut être employé pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes thermophotovoltaic.

Voici les spécifications de détail :

spécifications de gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 3 ″ (50.8mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 4 ″ (100mm)

spécifications de gaufrette de GaSb de 2 ″

Article Caractéristiques
Dopant Non dopé Zinc Tellurium
Type de conduction de type p de type p de type n
Diamètre de gaufrette 2 ″
Orientation de gaufrette (100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette 500±25um
Longueur plate primaire 16±2mm
Longueur plate secondaire 8±1mm
Concentration en transporteur (1-2) x1017cm-3 (5-100) x1017cm-3 (1-20) x1017cm-3
Mobilité 600-700cm2/V.s 200-500cm2/V.s 2000-3500cm2/V.s
EPD <2>3cm2
TTV <10um>
ARC <10um>
CHAÎNE <12um>
Inscription de laser sur demande
Finition de Suface P/E, P/P
Epi prêt oui
Paquet Conteneur ou cassette simple de gaufrette

spécifications de gaufrette de GaSb de 3 ″

Article Caractéristiques
Type de conduction de type p de type p de type n
Dopant Non dopé Zinc Tellurium
Diamètre de gaufrette 3 ″
Orientation de gaufrette (100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette 600±25um
Longueur plate primaire 22±2mm
Longueur plate secondaire 11±1mm
Concentration en transporteur (1-2) x1017cm-3 (5-100) x1017cm-3 (1-20) x1017cm-3
Mobilité 600-700cm2/V.s 200-500cm2/V.s 2000-3500cm2/V.s
EPD <2>3cm2
TTV <12um>
ARC <12um>
CHAÎNE <15um>
Inscription de laser sur demande
Finition de Suface P/E, P/P
Epi prêt oui
Paquet Conteneur ou cassette simple de gaufrette

spécifications de gaufrette de GaSb de 4 ″

Article Caractéristiques
Dopant Non dopé Zinc Tellurium
Type de conduction de type p de type p de type n
Diamètre de gaufrette 4 ″
Orientation de gaufrette (100) ±0.5°
Épaisseur de gaufrette 800±25um
Longueur plate primaire 32.5±2.5mm
Longueur plate secondaire 18±1mm
Concentration en transporteur (1-2) x1017cm-3 (5-100) x1017cm-3 (1-20) x1017cm-3
Mobilité 600-700cm2/V.s 200-500cm2/V.s 2000-3500cm2/V.s
EPD <2>3cm2
TTV <15um>
ARC <15um>
CHAÎNE <20um>
Inscription de laser sur demande
Finition de Suface P/E, P/P
Epi prêt oui
Paquet Conteneur ou cassette simple de gaufrette

1)″ 2 (50.8mm), gaufrette de GaSb de 3 ″ (76.2mm)Gaufrette de GaSb utilisée pour les détecteurs infrarouges, la LED et les lasers infrarouges et les transistors, et les systèmes de Thermophotovoltaic

Orientation : (100) ±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 600±25
Type/dopant : P/undoped ; P/Si ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~2) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 600~700
Méthode de croissance : LA CZ
Polonais : SSP

2)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (100) ±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 600±25
Type/dopant : N/undoped ; P/Te
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

3)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) A±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

4)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) B±0.5°
Épaisseur (μm) : 500±25 ; 450±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

5)gaufrette de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientation : (111) B 2deg.off
Épaisseur (μm) : 500±25
Type/dopant : N/Te ; P/Zn
OR (cm-3) : (1~5) E17
Mobilité (cm2/V ·s) : 2500~3500 ; 200~500
Méthode de croissance : LEC
Polonais : SSP

Produits relatifs :
Gaufrette d'InAs
Gaufrette d'InSb
Gaufrette d'INP
Gaufrette de GaAs
Gaufrette de GaSb
Gaufrette de Gap

L'antimoniure de gallium (GaSb) peut être fourni comme gaufrettes avec les finitions de comme-coupe, gravée à l'eau-forte ou poli et est disponible dans un large éventail de concentration, de diamètre et d'épaisseur en transporteur.

Le matériel de GaSb présente les propriétés intéressantes pour les dispositifs thermophotovoltaic de (TPV) de jonction simple. GaSb : Le monocristal de Te développé avec Czochralski (Cz) ou méthodes modifiées du chralski de Czo- (MOIS-CZ) sont présentés et le problème de la homogénéité de Te sont discutés. Car la mobilité des porteuses est l'un des points clés pour le cristal en vrac, des mesures de Hall sont effectuées. Nous présentons ici quelques développements complémentaires basés sur le point de vue de traitement matériel : la cristallogénèse en vrac, la préparation de gaufrette, et gravure à l'eau-forte de gaufrette. Des étapes suivantes après ces derniers sont liées au p/à aucune élaboration de jonction de r n/p. Quelques résultats obtenus pour différentes approches sur couche mince d'élaboration sont présentés. Ainsi du procédé de diffusion simple de phase vapeur ou du procédé liquide d'épitaxie de phase jusqu'au procédé organique de déposition en phase vapeur en métal nous rapportons une certaine spécificité matérielle.

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