Type libre du substrat N de GaN ou semi - isolant pour le rf, la puissance, menée et le LD

Point d'origine:La Chine
Quantité d'ordre minimum:1-10,000pcs
Conditions de paiement:T/T.
Capacité d'approvisionnement:10 000 gaufrettes/mois
Délai de livraison:5-50 jours ouvrables
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Substrat libre de GaN, type de N, semi-isolants pour le rf, la puissance, menée et le LD

 

Substrat libre de GaN

PAM-XIAMEN a établi la technologie manufacturière pour (nitrure de gallium) le   libre de gaufrette de substrat de   de GaN qui est pour UHB-LED et LD. Développé par technologie de (HVPE) d'épitaxie de phase vapeur d'hydrure, notre substrat de GaN a la basse densité de défaut et moins ou la macro densité libre de défaut.

Spécifications de substrat libre de GaN

Montre ici des spécifications de détail :

substrat libre de GaN de 2 ″ (50.8mm) (nitrure de gallium)

ArticlePAM-FS-GaN50-NPAM-FS-GaN50-SI
Type de conductionde type nSemi-isolant
Taille″ 2 (50,8) +/-1mm
Épaisseur330-450um
OrientationC-axe (0001) +/-0.5°
Emplacement plat primaire(1-100) +/-0.5°
Longueur plate primaire16+/-1mm
Emplacement plat secondaire(11-20) +/-3°
Longueur plate secondaire8+/-1mm
Résistivité (300K)<0>>106Ω·cm
Densité de dislocation<5x106cm-2>
Densité de défaut de MarcoUn grade2cm-2<>
TTV<>
ARC<>
Finition extérieureSurface avant : Ra<0>
 Surface arrière : la terre 1.Fine
2.Rough grinded
Secteur utilisable≥ 90 %

 

substrat libre de GaN de 1,5 ″ (38.1mm)

ArticlePAM-FS-GaN38-NPAM-FS-GaN38-SI
Type de conductionde type nSemi-isolant
Taille″ 1,5 (38,1) +/-0.5mm
Épaisseur330-450um
OrientationC-axe (0001) +/-0.5o
Emplacement plat primaire(1-100) +/-0.5o
Longueur plate primaire12+/-1mm
Emplacement plat secondaire(11-20) +/-3o
Longueur plate secondaire6+/-1mm
Résistivité (300K)<0>>106Ω·cm
Densité de dislocation<5x106cm-2>
Densité de défaut de MarcoUn grade2cm-2<>
TTV<>
ARC<>
Finition extérieureSurface avant : Ra<0>
 

Surface arrière : la terre 1.Fine

2.Rough grinded

  
Secteur utilisable≥ 90 %

 

15mm, 10mm, substrat libre de 5mm GaN

Article

PAM-FS-GaN15-N

PAM-FS-GaN10-N

PAM-FS-GaN5-N

PAM-FS-GaN15-SI

PAM-FS-GaN10-SI

PAM-FS-GaN5-SI

Type de conductionde type nSemi-isolant
Taille14.0mm*15mm 10.0mm*10.5mm 5.0*5.5mm
Épaisseur330-450um
OrientationC-axe (0001) +/-0.5o
Emplacement plat primaire 
Longueur plate primaire 
Emplacement plat secondaire 
Longueur plate secondaire 
Résistivité (300K)<0>>106Ω·cm
Densité de dislocation<5x106cm-2>
Densité de défaut de Marco0cm-2
TTV<>
ARC<>
Finition extérieureSurface avant : Ra<0>
 Surface arrière : la terre 1.Fine
  2.Rough grinded
Secteur utilisable≥ 90 %
    

 

Note :

Gaufrette de validation : Considérer la commodité de l'utilisation, gaufrette de validation de saphir de ″ de l'offre 2 de PAM-XIAMEN pour en-dessous du substrat libre de GaN de taille de 2 ″

Application de substrat de GaN

Éclairage semi-conducteur : Des dispositifs de GaN sont utilisés en tant que diodes électroluminescentes de luminosité ultra intense (LED), TV, automobiles, et éclairage général

Stockage de DVD : Diodes lasers bleues

Dispositif de puissance : Des dispositifs de GaN sont utilisés en tant que divers composants dans l'électronique de puissance de haute puissance et haute fréquence comme les stations de base, les satellites, les amplificateurs de puissance, et les inverseurs/convertisseurs cellulaires pour des véhicules électriques (EV) et des véhicules électriques hybrides (HEV). La basse sensibilité de GaN aux rayonnements ionisants (comme d'autres nitrures de groupe III) lui fait un matériel approprié pour des applications capable de supporter l'espace telles que des rangées de pile solaire pour des satellites et des dispositifs de haute puissance et haute fréquence pour la communication, le temps, et des satellites de surveillance

Idéal pour la recroissance d'III-nitrures

Stations de base sans fil : Transistors de puissance de rf

Access bande large sans fil : MMICs haute fréquence, Rf-circuits MMICs

Capteurs de pression : MEMS

Capteurs de la chaleur : détecteurs Pyro-électriques

Conditionnement de puissance : Intégration des messages mélangés GaN/Si

Électronique automobile : L'électronique hautes températures

Lignes de transport d'énergie : L'électronique haute tension

Capteurs de cadre : Détecteurs UV

Piles solaires : L'espace de bande large de GaN couvre le spectre solaire de 0,65 eV l'eV 3,4 (qui est pratiquement le spectre solaire entier), préparant la nitrure de gallium d'indium

(InGaN) allie parfait pour créer le matériel de pile solaire. En raison de cet avantage, des piles solaires d'InGaN développées sur des substrats de GaN sont portées en équilibre pour devenir une des nouvelles demandes et du marché de croissance les plus importants de gaufrettes de substrat de GaN.

Idéal pour des HEMTs, FETs

Projet de diode de GaN Schottky : Nous acceptons Spéc. de coutume des diodes de Schottky fabriquées sur les couches de nitrure de gallium (GaN) de n et les p-types HVPE-élevés et libres.
Les deux contacts (ohmiques et Schottky) ont été déposés sur la surface supérieure utilisant Al/Ti et Pd/Ti/Au.
Nous offrirons des rapports des essais, voyons svp au-dessous d'un exemple :
RAPPORT de matériel-ESSAI extérieur de rugosité-GaN
RAPPORT de matériel-ESSAI de Transmitance-GaN
RAPPORT de Matériel-ESSAI de basculage de courbes-GaN de XRD
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Type libre du substrat N de GaN ou semi - isolant pour le rf, la puissance, menée et le LD

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