99.995% de pureté Titane cible de pulvérisation Cibles de tubes rotatifs de revêtement PVD Cible de titaneest l'une des cibles couramment utilisées p......
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Le tungstène Titanium target est une cible en alliage de haute performance fabriquée à partir de tungstène (W) et de titane (Ti), combinant le point d......
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Le mot "cible" dans "cible de pulvérisation de titane" vient des matériaux de cible communs dans notre vie quotidienne.le matériau ......
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Cible titanique 99,5% de pulvérisation, 99,95% D100x40mm, D65x6.35mm La pureté est l'index principal de représentation du matériel de cible, parce q......
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Cible titanique Gr1 titanique ASTM B861-06 de tube une cible de métallisation sous vide de la pulvérisation 133OD*125ID*840L Nom d'article Cible ......
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Pureté de haute résistance adaptée aux besoins du client par cible ronde titanique de pulvérisation Chine Henan Avantages 1. lisse fini. Aucune...
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Informations sur le produit: Nom du produit Gr2 Gr1 DIA 100*40 mm Titane rond cible de pulvérisation pour revêtement sous vide Forme...
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Cible de pulvérisation au tungstène titane Définition: La cible de pulvérisation du tungstène est un produit fabriqué à partir de poudre de tung......
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Cible titanique pure de pulvérisation en métal de Ti de grande pureté du disque 99,99% 4n Le titane est métallique et malléable. Voyages sains à un t......
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W Cibles de pulvérisation au tungstène Aérospatiale, fusion des terres rares Cibles de pulvérisation au tungstène largement utilisées dans l'aérosp......
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cible pure de pulvérisation du molybdène 10.2g/cm3 pour le revêtement Introduction de cible de pulvérisation de molybdène Nom de produi...
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Cible de haute qualité résistante à hautes températures de pulvérisation de silice fondue La cible de pulvérisation de silice contient le SI et l......
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La cible de pulvérisation du lanthane est un matériau fonctionnel de haute pureté largement utilisé dans les semi-conducteurs, les revêtements optique......
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Le nickel de Ni 200 allie l'alliage basé sur nickel pur d'alliage de nickel de cible de pulvérisation Description de produits...
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Pulvérisez la cible pour des systèmes du dépôt de laser pulsé (PLD) et des systèmes de pulvérisation de magnétron de C.C ou de rf Nous fournit l'un ......
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Torich 133*4*4113mm 304L Cible de pulvérisation plane Cible de pulvérisation tube en acier inoxydable Torich 133*4*4113mm 304L Tuyau en acier inoxydab......
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Métallisation sous vide de HighPurityTitaniumVacuumTargetfor 1.Name : Titaniumroundtarget 2.Materials : Titane de Gr1 Gr2, alliage 3.Purity de TiAl : ......
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