application de pulvérisation par magnétron

Équipement de pulvérisation de magnétron de montre en acier inoxydable haut de gamme Pièces principales de l'équipement de pulvérisation magnétron ......

Pulvérisation et évaporation de magnétron de PVD métallisant le vide en plastique du système/PVD métallisant la machine Pulvérisation e...

Composition de l'équipement1. Système de vide : Généralement composé de pompes mécaniques, de pompes Roots, de pompes moléculaires, etc., il peut évac......

Magnétron multifonctionnel pulvérisant Metallizer utilisé pour enduire le film d'ANIMAL FAMILIER Description de produit Le magnétron pulvéri...

F1200×H800mm Magnétron machine de revêtement par pulvérisation 0~60RPM Machine de revêtement sous vide KSL-1200 Portée de l'applicationMachine à re......

Cible de pulvérisation de magnétron d'alliage de cuivre de molybdène 1. Description de cible de pulvérisation de magnétron d'alliage de cuivre de...

Vue d'ensemble du produit Le film de fenêtre de voiture à pulvérisation magnétronique de Westglass utilise une technologie de pulvérisation ma...

Revêtement continu de machine de pulvérisation de magnétron de PVD pour le revêtement des véhicules à moteur de réflexion de décoration d'électrodépos......

Film de pulvérisation par magnétron de haute précision pour teinture de vitres de voitures Description du produit: La série de pulvérisation magnéti......

Pulvérisez la cible pour des systèmes du dépôt de laser pulsé (PLD) et des systèmes de pulvérisation de magnétron de C.C ou de rf Nous fournit l'un ......

Sputtering Target Silver Sputtering Target Titanium Disc à haute pureté Sputtering dans les applications médicales Dans le domaine des processus d...

La nitrure de bore en céramique est particulièrement bien adaptée comme matériel brûlant d'ours dû à sa résistance à hautes températures et à sa r......

Cible titanique Gr2 titanique ASTM B861-06 de tube la métallisation sous vide de matériel de cible Nom Cible titanique de tube Norme ASTM B861-06 ......

Index techniques principaux : 1. vide final : le système d'acquisition de vide de la PA 2. du ³ ≤6.6X10 adopte la pompe moléculaire + pompage continu ......

Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron cibles titaniques rot......

Définition Titanium Sputtering Target, le titane est un matériau largement utilisé dans les montres, les implants biomédicaux, les perceuses, les ordi......

les ventres-W de tungstène de tantale allient des spécifications carrées de personnalisation de cible Procédé de préparation : pressing isostatiq......